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1. (WO2000071774) VAKUUMBEHANDLUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON WERKSTÜCKEN

Pub. No.:    WO/2000/071774    International Application No.:    PCT/CH2000/000286
Publication Date: 30.11.2000 International Filing Date: 22.05.2000
IPC: C23C 14/00
C23C 14/54
H01J 37/32
H01J 37/34
Applicants: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT
ZUEGER, Othmar
Inventors: ZUEGER, Othmar
Title: VAKUUMBEHANDLUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON WERKSTÜCKEN
Abstract:
In der Vakuumbehandlungskammer einer Vakuumbehandlungsanlage sind Organe (22) vorgesehen, welche die Behandlungsatmosphäre (U) in der erwähnten Kammer und in einem Behandlungsbereich (BB) erstellen. Eine Sensoranordnung (24) erfasst die im Behandlungsbereich momentan vorherrschende Behandlungsatmosphäre. Die Sensoranordnung (24) wirkt in einem Regelkreis als IST-Wertaufnehmer, eines der Organe (22) als Stellglied. Die Werkstücke werden in der Kammer durch den Behandlungsbereich (BB) durchbewegt. Die Behandlungsatmosphäre (U) im Behandlungsbereich (BB) wird nach einem gegebenen Profil (M) in der Zeit moduliert mit Hilfe eines der Organe.