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1. WO2000030870 - VERFAHREN ZUR DEKORATIVEN GESTALTUNG EINER LACKIERTEN SUBSTRATOBERFLÄCHE

Veröffentlichungsnummer WO/2000/030870
Veröffentlichungsdatum 02.06.2000
Internationales Aktenzeichen PCT/EP1999/008798
Internationales Anmeldedatum 16.11.1999
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen 24.05.2000
IPC
B44F 1/14 2006.01
BArbeitsverfahren; Transportieren
44Dekorationskunst oder -technik
FBesondere Musterungen oder Bilder
1Musterungen oder Bilder, gekennzeichnet durch besondere oder außergewöhnliche Lichteffekte
08gekennzeichnet durch Farbeffekte
14Irisierende Effekte
G03F 7/00 2006.01
GPhysik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
G03F 7/20 2006.01
GPhysik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
B44F 1/14
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
44DECORATIVE ARTS
FSPECIAL DESIGNS OR PICTURES
1Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
08characterised by colour effects
14Iridescent effects
G03F 7/001
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
G03F 7/2022
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
Anmelder
  • E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY, INC. [US/US]; 1007 Market Street Wilmington, DE 19898, US (AllExceptUS)
  • FRANKE, Hilmar [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • SIMMROCK, Hans-Ulrich [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • WEIDENHAMMER, Petra [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder
  • FRANKE, Hilmar; DE
  • SIMMROCK, Hans-Ulrich; DE
  • WEIDENHAMMER, Petra; DE
Vertreter
  • GILLE HRABAL STRUCK NEIDLEIN PROP ROOS; Brucknerstrasse 20 D-40593 Düsseldorf, DE
Prioritätsdaten
198 53 385.319.11.1998DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN ZUR DEKORATIVEN GESTALTUNG EINER LACKIERTEN SUBSTRATOBERFLÄCHE
(EN) METHOD FOR DECORATING THE SURFACE OF A PAINTED SUBSTRATE
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UN EFFET DECORATIF SUR LA SURFACE PEINTE D'UN SUBSTRAT
Zusammenfassung
(DE)
Verfahren zur dekorativen Gestaltung einer Substratoberfläche, bei dem ein durch Bestrahlung mit energiereicher Strahlung (z.B. Licht) zumindest teilweise aushärtbares Überzugsmittel auf die zu dekorierende Substratoberfläche aufgebracht und die unausgehärtete Überzugsschicht zumindest an der oder den zu dekorierenden Stellen durch eine oder mehrere für energiereiche Strahlung durchlässige Masken, die im Bereich von 100 bis 20000 nm voneinander beabstandete für energiereiche Strahlung weniger lichtdurchlässige oder undurchlässige Strukturen aufweisen, mit energiereicher Strahlung bestrahlt und anschließend noch nicht ausgehärtete Stellen in der Überzugsschicht thermisch und/oder durch energiereiche Strahlung ausgehärtet werden.
(EN)
According to the inventive method for decorating the surface of a substrate, a coating agent which can be at least partially cured by irradiation with energy-rich radiation (e.g. light) is applied to the substrate surface to be decorated and the uncured coating layer is irradiated with energy-rich radiation in at least the area or areas to be decorated through one or more masks, these masks being permeable to energy-rich radiation and having structures which are set 100 to 20000 nm apart and which are less transparent or impermeable to energy-rich radiation. The areas in the coating layer that have not yet been cured are then cured thermally and/or with energy-rich radiation.
(FR)
L'invention concerne un procédé de réalisation d'un effet décoratif sur la surface d'un substrat. Ce procédé consiste à appliquer sur la surface de substrat à décorer un agent de revêtement au moins partiellement durcissable par exposition à des rayons de haute énergie (p.ex lumière); à exposer à des rayons de haute énergie la couche de revêtement non durcie au moins au niveau de l'endroit ou des endroits à décorer à travers au moins un masque perméable aux rayons de haute énergie, qui présente des structures imperméables ou peu perméables à la lumière et espacées dans la plage de 100 à 20000 nm pour le rayonnement de haute énergie. Enfin, les emplacements de la couche de revêtement encore non durcis sont durcis thermiquement et/ou par exposition à des rayons de haute énergie.
Auch veröffentlicht als
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