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1. (WO1999054786) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   
Veröff.-Nr.: WO/1999/054786 Internationale Anmeldenummer PCT/US1999/008623
Veröffentlichungsdatum: 28.10.1999 Internationales Anmeldedatum: 20.04.1999
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 28.10.1999
IPC:
B41C 1/14 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/12 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
41
Drucken; Liniermaschinen; Schreibmaschinen; Stempel
C
Verfahren zur Herstellung oder Nachbildung von Druckformen
1
Druckformherstellung
14
für Schablonendruck oder Siebdruck
B Arbeitsverfahren; Transportieren
05
Versprühen oder Zerstäuben allgemein; Aufbringen von Flüssigkeiten oder von anderen fließfähigen Stoffen auf Oberflächen allgemein
D
Verfahren zum Aufbringen von Flüssigkeiten oder von anderen fließfähigen Stoffen auf Oberflächen allgemein
1
Verfahren zum Aufbringen von Flüssigkeiten oder von anderen fließfähigen Stoffen
32
unter Verwendung von Einrichtungen zum Abschirmen von überzugsfrei zu haltenden Oberflächenteilen, z.B. mittels Schablonen oder Schutzlack
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
1
Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
12
Herstellen von Siebdruck- oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
27
Bauelemente, die aus einer Mehrzahl von in oder auf einem gemeinsamen Substrat ausgebildeten Halbleiter- oder anderen Festkörperschaltungselementen bestehen [integrierte Schaltungen]
28
mit Schaltungselementen, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen Materialien mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen
32
mit Schaltungselementen, besonders ausgebildet zur Lichtemission, z.B. Flachbildschirme mit organischen LED
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
51
Festkörperbauelemente, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen; Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
50
besonders ausgebildet zur Lichtemission, z.B. organische lichtemittierende Dioden (OLED) oder polymere lichtemittierende Bauelemente (PLED)
H Elektrotechnik
05
Elektrotechnik, soweit nicht anderweitig vorgesehen
B
Elektrische Heizung; elektrische Beleuchtung, soweit nicht anderweitig vorgesehen
33
Elektrolumineszierende Lichtquellen
10
Geräte oder Verfahren, die in besonderer Weise für die Herstellung von elektrolumineszierenden Lichtquellen ausgebildet sind
Anmelder:
JACKMAN, Rebecca, J. [GB/US]; US (UsOnly)
DUFFY, David, C. [GB/US]; US (UsOnly)
WHITESIDES, George, M. [US/US]; US (UsOnly)
VAETH, Kathleen, M. [US/US]; US (UsOnly)
JENSEN, Klavs, F. [US/US]; US (UsOnly)
PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; Holyoke Center Suite 727 1350 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02138, US (AllExceptUS)
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US (AllExceptUS)
Erfinder:
JACKMAN, Rebecca, J.; US
DUFFY, David, C.; US
WHITESIDES, George, M.; US
VAETH, Kathleen, M.; US
JENSEN, Klavs, F.; US
Vertreter:
OYER, Timothy, J.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Prioritätsdaten:
09/063,74221.04.1998US
Titel (EN) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
(FR) MASQUE ELASTOMERE ET SON UTILISATION DANS LA FABRICATION DE DISPOSITIFS, DONT DES AFFICHEURS ELECTROLUMINESCENTS PIXELISES
Zusammenfassung:
(EN) An elastomeric mask is provided that allows deposition of a variety of materials through mask openings. The mask seals effectively against substrate surfaces, allowing simple deposition from fluid phase, gas phase, and the like or removal of material using gaseous or liquid etchants. The mask then can be simply peeled from the surface of the substrate leaving the patterned material behind. Multi-layered mask techniques are described in which openings in an upper mask allow selected openings of a lower mask to remain unshielded, while other openings of the lower mask are shielded. A first deposition step, followed by re-orientation of the upper mask to expose a different set of lower mask openings, allows selective deposition of different materials in different openings of the lower mask. Pixelated organic electroluminescent devices are provided via the described technique.
(FR) L'invention concerne un masque élastomère permettant le dépôt d'une variété de matériaux par les ouvertures du masque. Le masque vient en contact étanche efficace contre les surfaces du substrat, ce qui permet le dépôt simple à partir de phase gazeuse ou liquide et similaire ou le retrait de matériaux au moyen d'agents de gravure gazeux ou liquides. Le masque peut ensuite être simplement pelés de la surface du substrat, seul le matériau à motif subsistant. Des techniques de masquage multicouche sont décrites, dans lesquelles des ouvertures présentes dans un masque supérieur permettent aux ouvertures sélectionnées d'un masque inférieur de rester exposées, alors que d'autres ouvertures du masque inférieur reste protégées. Une première étape de dépôt, suivie de la réorientation du masque supérieur pour permettre l'exposition d'un ensemble différent d'ouvertures du masque inférieur, permet le dépôt sélectif de différents matériaux dans différentes ouvertures du masque inférieur. Des dispositifs organiques électroluminescents pixélisés sont produits au moyen de la technique décrite.
Designierte Staaten: CA, JP, US
Europäisches Patentamt (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)