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1. WO1999050878 - VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINES GEPULSTEN ELEKTRONENSTRAHLS UND TRIGGERPLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS

Veröffentlichungsnummer WO/1999/050878
Veröffentlichungsdatum 07.10.1999
Internationales Aktenzeichen PCT/EP1999/001742
Internationales Anmeldedatum 17.03.1999
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen 28.07.1999
IPC
H01J 37/077 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02Einzelheiten
04Anordnungen der Elektroden und zugeordneten Teile zum Erzeugen oder Steuern der Entladung, z.B. elektronenoptische oder ionenoptische Anordnung
06Elektronenquellen; Elektronenstrahlerzeuger
077Elektronenkanonen, die eine Entladung in Gasen oder Dämpfen als Elektronenquellen verwenden
CPC
H01J 2237/3132
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
30Electron or ion beam tubes for processing objects
31Processing objects on a macro-scale
3132Evaporating
H01J 37/077
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06Electron sources; Electron guns
077Electron guns using discharge in gases or vapours as electron sources
Anmelder
  • FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • FREY, Wolfgang [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • FREY, Wolfgang
Prioritätsdaten
198 13 589.027.03.1998DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINES GEPULSTEN ELEKTRONENSTRAHLS UND TRIGGERPLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS
(EN) METHOD FOR GENERATING A PULSED ELECTRON BEAM AND A TRIGGER PLASMA SOURCE FOR CARRYING OUT SAID METHOD
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE UN FAISCEAU ELECTRONIQUE PULSE ET SOURCE DE PLASMA D'EXCITATION POUR METTRE EN OEUVRE LEDIT PROCEDE
Zusammenfassung
(DE)
Durch das Verfahren und die Triggerplasmaquelle zur Durchführung desselben kann langzeitlich ein stets reproduzierbarer, stromstarker Elektronenstrahlimpuls erzeugt werden, der zur Ablation dünner Schichten auf einem exponierten Substrat hervorragend geeignet ist. In der Triggerplasmaquelle läuft eine gepulste Penning-Entladung ab. Zur Elektronenstrahlbildung wird keine Gleitentladung verwendet, sondern eine saubere Gasentladung, die den weiteren Prozeßablauf nicht durch Verunreinigungen nachteillig beeinflußt. Nach dem Anlegen des zur Zündung notwendigen Magnetfelds für die Penning-Entladung entwickeln sich die Potentiale an der Triggerplasmaquelle selbständig.
(EN)
According to the invention, an electron beam impulse which has a high current intensity and which can always be reproduced can be generated for long durations by the method and by the trigger plasma source for carrying out said method. The electron beam impulse is extremely well-suited for the ablation of thin layers on an exposed substrate. A pulsed Penning discharge occurs in the trigger plasma source. Rather than using surface discharge to form the electron beam, a clean gas discharge is used which does not disadvantageously influence the proceeding process sequence due to impurities. The potentials independently develop on the trigger plasma source after applying the magnetic field for the Penning discharge, said magnetic field being required for triggering.
(FR)
Le procédé selon l'invention et la source de plasma d'excitation pour mettre en oeuvre ledit procédé permettent de produire de façon durable une impulsion de faisceau électronique de forte intensité, reproductible, parfaitement adaptée à l'ablation de couches minces sur un substrat exposé. Une décharge de Penning pulsée se produit dans la source de plasma d'excitation. La formation du faisceau électronique ne s'effectue pas au moyen d'une décharge superficielle mais au moyen d'un décharge nette dans un gaz, qui n'influence pas la poursuite du processus de façon négative en raison d'impuretés. Après application du champ magnétique nécessaire à l'amorçage, pour la décharge de Penning, les potentiels se développent de façon spontanée au niveau de la source de plasma d'excitation.
Auch veröffentlicht als
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