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1. (WO1999032919) HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR MIKROMECHANISCHE VORRICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1999/032919    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/DE1998/003129
Veröffentlichungsdatum: 01.07.1999 Internationales Anmeldedatum: 26.10.1998
IPC:
B81B 3/00 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Anmelder: ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 D-70442 Stuttgart (DE) (For All Designated States Except US).
FUNK, Karsten [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FREY, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: FUNK, Karsten; (DE).
FREY, Wilhelm; (DE)
Prioritätsdaten:
197 57 197.2 22.12.1997 DE
Titel (DE) HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR MIKROMECHANISCHE VORRICHTUNG
(EN) METHOD FOR PRODUCING A MICROMECHANICAL DEVICE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION POUR DISPOSITIF MICROMECANIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung schafft ein Herstellungsverfahren für eine mikromechanische Vorrichtung, insbesondere für eine mikromechanische Schwingspiegelvorrichtung, mit den Schritten: Bereitstellen einer dreischichtigen Struktur (10, 20, 30) mit einer ersten Schicht (10), einer zweiten Schicht (20) und einer dritten Schicht (30), wobei die zweite Schicht (20) zwischen der ersten und der dritten Schicht (10, 30) liegt; Durchätzen der ersten Schicht (10) bis zur zweiten Schicht (20) zum Erzeugen eines auf der zweiten Schicht (20) liegenden Inselbereichs (40), der über einen oder mehrere Verbindungsstege (50) mit dem den Inselbereich umgebenden Bereich (60) der ersten Schicht (10) verbunden ist und Durchätzen eines Bereichs (70, 80) der dritten Schicht (30) bis zur zweiten Schicht (20) und Entfernen eines Bereichs (75, 85) der zweiten Schicht (20) unter dem Inselbereich (40) derart, daß der Inselbereich (40) um den einen oder die mehreren Verbindungsstege (50) Bewegungen, vorzugsweise Torsionsschwingungen, ausführen kann, die eine solche Amplitude aufweisen, daß ein Teil des Inselbereichs (40) in den durchgeätzten Bereich (70, 80) der dritten Schicht (30) hineinragt.
(EN)The invention relates to a method for producing a micromechanical device, especially a micromechanical oscillating mirror device, comprising the following steps: a triple-layer structure (10, 20, 30) made up of a first (10), second (20) and third (30) layer is provided, the second layer being located between the first and third layers (10, 30); the first layer (10) is etched through to the second layer (20) in order to produce an island area (40) on said second layer (20), said island area (40) being connected to the area of the first layer (10) surrounding it by means of one or more connecting links (50); an area (70, 80) of the third layer (30) is etched through to the second layer (20) and an area (75, 85) of the second layer (20) underneath the island area (40) is removed so that the island area (40) can move, and preferably torsionally oscillate around the one or more connecting links, (50), said torsional oscillations being of such an amplitude that part of the island area (40) protrudes into the etched-through area (70, 80) of the third layer (30).
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication pour dispositif micromécanique, en particulier pour un dispositif micromécanique à miroirs oscillants, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: préparation d'une structure à trois couches (10, 20, 30) comportant une première couche (10), une deuxième couche (20) et une troisième couche (30), la deuxième couche (20) étant disposée entre la première et la troisième couches (10, 30); attaque de la première couche (10) en traversant celle-ci de manière à atteindre la deuxième couche (20) en vue d'avoir une zone formant un îlot (40), située sur la deuxième couche (20) qui est liée, via une ou plusieurs nervures de liaison (50), à la zone (60) de la première couche (10) entourant la zone de l'îlot, puis attaque d'une zone (70, 80) de la troisième couche (30) en traversant celle-ci jusqu'à atteindre la deuxième couche (20), et enlèvement d'une zone (75, 85) de la deuxième couche (20) sous la zone de l'îlot (40), de telle façon que cette zone (40) puisse être animée de mouvements autour d'une ou de plusieurs nervures de liaison (50), de préférence d'oscillations de torsion d'amplitude telle qu'une partie de la zone d'îlot (40) pénètre à l'intérieur de la zone attaquée (70, 80) de la troisième couche (30).
Designierte Staaten: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)