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1. (WO1999014555) HEBELARM FÜR EIN RASTERKRAFTMIKROSKOP
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1999/014555    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE1998/002706
Veröffentlichungsdatum: 25.03.1999 Internationales Anmeldedatum: 10.09.1998
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    09.04.1999    
IPC:
G01B 7/34 (2006.01), G01Q 20/04 (2010.01), G01Q 60/38 (2010.01), H01J 37/28 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H01L 29/84 (2006.01), G01B 7/16 (2006.01), G01D 5/18 (2006.01)
Anmelder: FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Wilhelm-Johnen-Strasse, D-52425 Jülich (DE) (For All Designated States Except US).
JUMPERTZ, Reiner [DE/US]; (US) (For US Only)
Erfinder: JUMPERTZ, Reiner; (US)
Allgemeiner
Vertreter:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH; Personal und Recht - Patente - (PR-PT), D-52425 Jülich (DE)
Prioritätsdaten:
197 40 763.3 16.09.1997 DE
Titel (DE) HEBELARM FÜR EIN RASTERKRAFTMIKROSKOP
(EN) LEVER ARM FOR A SCANNING MICROSCOPE
(FR) BRAS DE LEVIER DESTINE A UN MICROSCOPE A BALAYAGE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Hebelarms mit einer Spitze für ein Rasterkraftmikroskop. Die Erfindung betrifft ferner einen derartigen Hebelarm. Verfahrensgemäß wird zur Herstellung ein eine Spitze aufweisenden Wafer ein piezoresistiver Widerstand mittels C-MOS implantiert. Eine die Spitze bedeckende metallische Schicht wird auf den Wafer dann aufgebracht, wenn die Spitze im nachfolgenden Schritt geschützt werden muß oder ein Fotolack im nachfolgenden Schritt durchgehend beschädigt werden könnte. Das Metall ist so gewählt, daß es naßchemisch weggeätzt werden kann. Der Hebelarm und die Spitze bestehen dann im Unterschied zum Stand der Technik aus einem Stück. Im Hebelarm befindet sich unterhalb einer Oxidschicht ein piezoresistiver Widerstand. Die Spitze muß vorteilhaft trotz C-MOS-Verfahren nicht wie beim Stand der Technik nachträglich von Hand angeklebt werden.
(EN)The invention relates to a method for producing a lever arm with a tip for a scanning microscope. The invention also relates to one such lever arm. In order to produce said lever arm, a piezo-resistive resistance can be implanted in a wafer with a tip using C-MOS. A metal coating covering the tip is then applied to the wafer if the tip should be protected in the next step or if a photo-enamel could be damaged in the next step. The metal is selected in such a way that it can be wet-chemically etched. The lever arm and the tip consist of a single piece unlike prior art. A piezo-resistive resistance is located underneath an oxide coating in the lever arm. One advantage of the invention is that the tip does not need to be glued by hand, as is the case for prior art, despite use of the C-MOS method.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un bras levier doté d'une pointe et destiné à un microscope à balayage. L'invention concerne également un tel bras de levier. Pour la production d'un tel bras levier, on peut implanter une résistance piézorésitive dans une tranche présentant une pointe au moyen d'un CMOS. Ensuite, on applique sur la tranche une couche métallique qui recouvre la pointe si la pointe doit être protégée à l'étape suivante ou si une photolaque risque d'être entièrement endommagée par la suite. Contrairement à l'état de la technique, le bras de levier et la pointe sont conçus d'une seule pièce. Le bras de levier comporte, sous une couche d'oxyde, une résistance piézorésistive. Malgré le procédé CMOS, la pointe ne doit avantageusement pas être collée ultérieurement à la main comme c'est le cas selon l'état de la technique.
Designierte Staaten: CA, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)