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1. (WO1999011725) BESCHICHTUNGSZUSAMMENSETZUNGEN AUF DER BASIS VON EPOXIDGRUPPEN ENTHALTENDEN SILANEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1999/011725    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP1998/005198
Veröffentlichungsdatum: 11.03.1999 Internationales Anmeldedatum: 17.08.1998
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    19.02.1999    
IPC:
C09D 4/00 (2006.01), C09D 183/06 (2006.01), C09D 183/14 (2006.01)
Anmelder: BAYER AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; D-51368 Leverkusen (DE) (For All Designated States Except US).
INSTITUT FÜR NEUE MATERIALIEN GEM. GMBH [DE/DE]; Gebäude 43, Im Stadtwald, D-66123 Saarbrücken (DE) (For All Designated States Except US).
BIER, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KRUG, Herbert [DE/US]; (US) (For US Only).
SEPEUR, Stefan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STEIN, Sabine [DE/AT]; (AT) (For US Only)
Erfinder: BIER, Peter; (DE).
KRUG, Herbert; (US).
SEPEUR, Stefan; (DE).
STEIN, Sabine; (AT)
Allgemeiner
Vertreter:
BAYER AKTIENGESELLSCHAFT; D-51368 Leverkusen (DE)
Prioritätsdaten:
197 37 475.1 28.08.1997 DE
Titel (DE) BESCHICHTUNGSZUSAMMENSETZUNGEN AUF DER BASIS VON EPOXIDGRUPPEN ENTHALTENDEN SILANEN
(EN) COATING COMPOUNDS BASED ON SILANES CONTAINING EPOXIDE GROUPS
(FR) COMPOSITION DE RECOUVREMENT A BASE DE SILANES CONTENANT DES GROUPES EPOXYDE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Beschichtungszusammensetzung, umfassend mindestens eine Siliciumverbindung (A), die mindestens einen hydrolytisch nicht abspaltbaren, direkt an Si gebundenen Rest aufweist, der eine Epoxidgruppe enthält, ein teilchenförmiges Material (B), das ausgewählt wird aus Oxiden, Oxidhydraten, Nitriden und Carbiden von Si, Al und B sowie von Übergangsmetallen und eine Teilchengröße im Bereich von 1 bis 100 nm aufweist, eine Verbindung (C) von Si, Ti, Zr, B, Sn oder V und mindestens eine hydrolysierbare Verbindung (D) von Ti, Zr oder Al, die folgendes Verhältnis 1,0 mol Siliciumverbindung (A), 0,27-0,49 mol teilchenförmiges Material (B), 0,36-0,90 mol Verbindung (C) und 0,14-0,22 mol Verbindung (D) umfaßt.
(EN)The present invention concerns a coating compound, comprising at least one silicon compound (A) with at least one radical which cannot be hydrolitically cleaved and which is directly bonded to Si, said radical containing an expoxide group; a material in particle form (B) selected from the oxides, oxide hydrates, nitrides and carbides of Si, Al and B, in addition to transition metals and a particle size ranging from 1 to 100 nm; a compound (C) of Si, Ti. Zr, B, Sn or V and at least one hydrolyzable compound (D) of Ti, Zr or Al, wherein said constituents are present in the following proportions: 1.0 mol silicon compound (A); 0.27-0.49 mol material in particle form (B); 0.36-0.90 mol compound (C) and 0.14-0.22 mol compound (D).
(FR)L'objectif de la présente invention est une composition de recouvrement comprenant au moins un composé de silicium (A) qui présente un reste ne pouvant pas être éliminé hydrolytiquement, relié directement à Si et qui contient un groupe époxyde, un matériau (B), sous forme de particules, qui est sélectionné parmi les oxydes, les hydrates d'oxyde, les nitrures et les carbures de Si, d'Al et de B, ainsi que de métaux de transition et qui présente une taille de particule comprise dans la plage 1 à 100 nm, un composé (C) de Si, Ti, Zr, B, Sn ou V, et au moins un composé (D) hydrolisable de Ti, Zr ou Al. Ces différents composants sont présents dans les proportions suivantes: composé de silicium (A): 1,0 mol; matériau (B) sous forme de particules: 0,27-0,49 mol; composé (C): 0,36-0,90 mol; et composé (D): 0,14-0,22 mol.
Designierte Staaten: AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)