(DE) Bei einem Verfahren zur Fokussierung bei der Abbildung strukturierter Oberflächen von scheibenförmigen Objekten besteht die Aufgabe, der Bildverarbeitung Bilder zur Verfügung zu stellen, die zu einer Erhöhung der Erkennungssicherheit von Fehlern und einer Senkung der Pseudofehlerrate führen. Ein durch geregelte Verstellung hergestellter Abstand zwischen einer zur Auflage für die Objekte dienenden Trägerebene zu einer Bezugsebene wird gemäß der Erfindung durch einen ungeregelten, mindestens für ein Teilgebiet der Oberfläche anzuwendenden Voreinstellwert der Regelung korrigiert. Das Verfahren ist vorwiegend anwendbar in der Prozeßkontrolle von Halbleiterwafern im Herstellungsprozeß.
(EN) The invention relates to a method for focusing during imaging of structured surfaces of disc-shaped objects in order to provide images required for image processing, to enhance error detection accuracy and to reduce the pseudo error rate. The distance arising as a result of controlled adjustment between a support plane acting as a base for the objects and a reference plane is corrected by an unadjusted pre-regulation control value at least for one part of the surface. The inventive method can be chiefly used in process control of semiconductor wafer manufacturing.
(FR) L'invention concerne un procédé de focalisation lors de la représentation de surfaces structurées d'objets sous forme de plaques et vise à mettre à disposition du traitement d'images, des images permettant d'améliorer la fiabilité d'identification d'erreurs et entraînant une diminution des taux de pseudo-erreurs. L'écart produit par ajustement régulé entre un plan support destiné à recevoir les objets et un plan de référence est corrigé selon l'invention par une valeur de préréglage non régulée de la régulation, ladite valeur étant à appliquer au moins pour une zone partielle de la surface. Ce procédé s'utilise essentiellement dans la régulation de procédés industriels de tranches pour semi-conducteurs dans le processus de fabrication.