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1. (WO1998020522) VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON SUBSTRATEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1998/020522    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP1997/005408
Veröffentlichungsdatum: 14.05.1998 Internationales Anmeldedatum: 01.10.1997
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    02.04.1998    
IPC:
C23G 3/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Anmelder: STEAG MICROTECH GMBH [DE/DE]; Carl-Benz-Strasse 10, D-72124 Pliezhausen (DE) (For All Designated States Except US).
WEBER, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: WEBER, Martin; (DE)
Prioritätsdaten:
196 45 425.5 04.11.1996 DE
Titel (DE) VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN VON SUBSTRATEN
(EN) SUBSTRATE TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF POUR TRAITER DES SUBSTRATS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einer Vorrichtung zum Behandeln von Substraten (4) in einem ein Behandlungsfluid enthaltenden Fluidbehälter (1), mit wenigstens einer Substrat-Aufnahmeeinrichtung (3) und einer Hubeinrichtung (8) zum Absenken und Anheben der Substrat-Aufnahmeeinrichtung (3) wird eine Beeinträchtigung oder Zerstörung der Hubeinrichtung (8) bzw. deren Bau- und Funktionselemente durch chemische Dämpfe mit einer Dampfabsaugeinrichtung verhindert, die Dämpfe im Bereich der Hubeinrichtung (8) vorzugsweise über der Oberfläche des Behandlungsfluids absaugt.
(EN)The invention concerns a device for treating substrates (4) in a fluid container (1) containing a treatment fluid, the device having at least one substrate-holder arrangement (3) and a lifting arrangement (8) for lowering and raising the substrate-holder arrangement (3). In order to prevent the lifting arrangement (8) or its structural and operating elements from being damaged or destroyed by chemical vapours, a vapour-suction arrangement is provided which draws off vapours in the region of the lifting arrangement (8), preferably above the surface of the treatment fluid.
(FR)L'invention concerne un dispositif pour traiter des substrats (4) dans un récipient fluidique (1) contenant un fluide de traitement, comportant au moins un dispositif récepteur (3) pour le substrat et un dispositif de levage (8) pour abaisser et soulever le dispositif récepteur (3) de substrat. Afin d'éviter que le dispositif de levage (8) ou ses éléments constitutifs ou fonctionnels ne soient endommagés ou détruits par des vapeurs chimiques, il est prévu un dispositif d'aspiration de la vapeur, qui aspire les vapeurs dans la zone du dispositif de levage (8), de préférence au-dessus de la surface du fluide de traitement.
Designierte Staaten: CA, CN, CZ, ID, IL, JP, KR, SG, US.
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)