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1. (WO1997032200) VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG EINES DISPERSEN SYSTEMS AUF NICHTDISPERGIERTE VERUNREINIGUNGEN UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DIESES VERFAHRENS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1997/032200    Internationale Anmeldenummer    PCT/CH1997/000064
Veröffentlichungsdatum: 04.09.1997 Internationales Anmeldedatum: 21.02.1997
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    05.09.1997    
IPC:
G01N 23/18 (2006.01)
Anmelder: BOREALIS A/S [DK/DK]; Lyngby Hovedgade 96, DK-2800 Lyngby (DK) (For All Designated States Except US).
STUCKI, Fredi [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Erfinder: STUCKI, Fredi; (CH)
Vertreter: ASEA BROWN BOVERI AG; Haselstrasse 16, CH-5401 Baden (CH)
Prioritätsdaten:
196 07 582.3 29.02.1996 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG EINES DISPERSEN SYSTEMS AUF NICHTDISPERGIERTE VERUNREINIGUNGEN UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DIESES VERFAHRENS
(EN) PROCESS FOR MONITORING A DISPERSE SYSTEM FOR NON-DISPERSED IMPURITIES AND DEVICE FOR CARRYING OUT SAID PROCESS
(FR) PROCEDE DE CONTROLE D'UN SYSTEME DISPERSE, POUR LA DETECTION D'IMPURETES NON DISPERSEES, ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN OEUVRE DE CE PROCEDE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Das Verfahren dient der Überwachung eines dispersen Systems auf nichtdispergierte Verunreinigungen (16) vor seiner Verarbeitung zu einem Endprodukt. Bei dem Verfahren wird ein Teil des dispersen Systems vor der Verarbeitung zu einem Band (7) extrudiert und werden in diesem Band die Verunreinigungen detektiert. Hierbei werden kleine Bereiche des Bandes (7) kontinuierlich oder schrittweise quer zur Bandebene mit weicher Röntgenstrahlung durchstrahlt. Die aus den durchstrahlten Bereichen des Bandes tretende Röntgenstrahlung wird sodann bereichsweise detektiert. Aus der detektierten Strahlung werden die Art, die Anzahl, die Grösse, die Form und/oder die Verteilung der Verunreinigungen (16) ermittelt. Hierbei ist es von besonderem Vorteil, dass wegen der Durchstrahlung des Bandes (7) Verunreinigungen sowohl im Bandinneren als auch auf der Bandoberfläche erfasst werden. Überschreiten die Verunreinigungen (16) einen vorgegebenen Schwellwert, so wird das disperse System von seiner Weiterverarbeitung ausgeschlossen.
(EN)The invention relates to a process for monitoring a disperse system for non-dispersed impurities (16) before processing of said system into an end product. During said process, part of the disperse system is extruded before processing to form a strip (7) and the impurities in said strip are detected. To this end, weak X-rays are beamed through small areas of the strip (7) continuously or gradually and at right angles to the strip plane. The X-rays emerging from the areas of the strip through which they have passed are subsequently detected in areas. The type, number, size, shape and/ or distribution of the impurities (16) are determined by the detected rays. It is particularly advantageous that impurities inside the strip and also on the surface thereof are detected as a result of X-rays passing through the strip (7). If the impurities (16) exceed a predetermined threshold, the disperse system does not undergo further processing.
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à contrôler un système dispersé, en vue de détecter la présence d'impuretés non dispersées (16), avant sa transformation en un produit fini. Selon ce procédé, une partie du système dispersé est extrudée avant d'être transformée en une bande (7), et les impuretés sont détectées dans cette bande. A cet effet, de petites zones de la bande (7) sont irradiées aux rayons X mous, en continu ou par intermittence, perpendiculairement au plan de la bande. Le rayonnement X émergeant des zones irradiées de la bande est ensuite détecté par zones. A partir du rayonnement détecté, on détermine la nature, le nombre, les dimensions, la forme et/ou la distribution des impuretés (16). Il est particulièrement avantageux, en raison de l'irradiation à travers la bande (7), que les impuretés soient détectées aussi bien à l'intérieur qu'à la surface de la bande. Si les impuretés (16) dépassent une valeur seuil prédéterminée, le système dispersé est refusé et toute transformation ultérieure est interrompue.
Designierte Staaten: AU, CA, CN, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)