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1. (WO1997025278) VERFAHREN ZUR AUFBEREITUNG VON SPÜLWASSER AUS DER HALBLEITERFERTIGUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1997/025278    Internationale Anmeldenummer    PCT/CH1996/000442
Veröffentlichungsdatum: 17.07.1997 Internationales Anmeldedatum: 17.12.1996
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    05.06.1997    
IPC:
C02F 1/28 (2006.01)
Anmelder: CHRIST AG [CH/CH]; Hauptstrasse 192, CH-4147 Aesch (CH) (For All Designated States Except US).
RYCHEN, Philippe [FR/FR]; (FR) (For US Only).
KLEIBER, Thomas [CH/CH]; (CH) (For US Only).
GENSBITTEL, Dominique [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Erfinder: RYCHEN, Philippe; (FR).
KLEIBER, Thomas; (CH).
GENSBITTEL, Dominique; (FR)
Vertreter: PATENTANWALTSBÜRO A. BRAUN BRAUN HERITIER ESCHMANN AG; Holbeinstrasse 36-38, Postfach 160, CH-4003 Basel (CH)
Prioritätsdaten:
10/96 04.01.1996 CH
Titel (DE) VERFAHREN ZUR AUFBEREITUNG VON SPÜLWASSER AUS DER HALBLEITERFERTIGUNG
(EN) PROCESS FOR PURIFYING RINSING WATER USED IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURE
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT DE L'EAU DE RINÇAGE ISSUE DE LA FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die in Spülwässern der Halbleiterfertigung vorhandenen hydrophilen organischen Verunreinigungen und Wasserstoffperoxid werden durch Adsorption an einem Pyrolysat eines makroretikulären sulfonierten vinylaromatischen Polymers mit einem Kohlenstoffgehalt von mindestens 85 Gew.-% und einem Kohlenstoff/Wasserstoff-Atomverhältnis von 1,5:1 bis 20:1 entfernt. Die Pyrolysate weisen trotz ihrer hydrophoben Oberfläche ein vergleichsweise hohes Adsorptionsvermögen für diese Verunreinigungen auf und ermöglichen deutlich höhere Entfernungsraten als übliche Aktivkohlen.
(EN)The hydrophilic organic impurities and hydrogen peroxide in rinsing water from semiconductor manufacturing processes are removed by adsorption on a pyrolysate of a macroreticular sulphonated vinyl aromatic polymer with a carbon content of at least 85 wt % and a carbon/hydrogen atomic ratio of 1.5:1 to 20:1. Despite their hydrophobic surface, the pyrolysates exhibit a high adsorbing capacity for these impurities and permit markedly higher removal rates than the usual active charcoals.
(FR)Les impuretés organiques hydrophiles et le peroxyde d'hydrogène présents dans les eaux de rinçage issues de la fabrication de semi-conducteurs sont éliminés par adsorption sur un pyrolysat d'un polymère vinylaromatique sulfoné macroréticulaire ayant une teneur en carbone d'au moins 85 % en poids et présentant un rapport atomique carbone/hydrogène compris entre 1,5:1 et 20:1. Comparativement aux charbons actifs classiques, ces pyrolysats présentent, en dépit de leur surface hydrophobe, un pouvoir d'adsorption élevé à l'égard de ces impuretés et permettent d'en éliminer des quantités nettement plus importantes.
Designierte Staaten: CA, CN, JP, KR, NO, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)