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1. WO1996012392 - VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG ELEKTRISCHER SCHALTUNGSTRÄGER

Veröffentlichungsnummer WO/1996/012392
Veröffentlichungsdatum 25.04.1996
Internationales Aktenzeichen PCT/DE1995/001500
Internationales Anmeldedatum 18.10.1995
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen 25.03.1996
IPC
C23C 16/18 2006.01
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
06gekennzeichnet durch das Abscheiden metallischer Stoffe
18aus metallorganischen Verbindungen
C23C 18/30 2006.01
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
18Chemisches Beschichten durch Zersetzen entweder flüssiger Verbindungen oder der Lösungen der den Überzug bildenden Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug; Kontaktbeschichten
16durch Reduktion oder Substitution, d.h. stromloses Beschichten
18Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs
20organischer Oberflächen, z.B. Harze
28Sensibilisieren oder Aktivieren
30Aktivieren
H05K 3/38 2006.01
HSektion H Elektrotechnik
05Elektrotechnik, soweit nicht anderweitig vorgesehen
KGedruckte Schaltungen; Gehäuse oder bauliche Einzelheiten von elektrischen Geräten; Herstellung von Baugruppen aus elektrischen Elementen
3Geräte oder Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen
38Verbesserung der Haftung zwischen dem isolierenden Substrat und dem Metall
CPC
C23C 16/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
06characterised by the deposition of metallic material
18from metallo-organic compounds
C23C 18/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
16by reduction or substitution, e.g. electroless plating
18Pretreatment of the material to be coated
20of organic surfaces, e.g. resins
28Sensitising or activating
30Activating ; or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
H05K 3/388
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
388by the use of a metallic or inorganic thin film adhesion layer
Anmelder
  • ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • MEYER, Heinrich [DE]/[DE] (UsOnly)
Erfinder
  • MEYER, Heinrich
Vertreter
  • EFFERT, Udo
Prioritätsdaten
P 44 38 777.618.10.1994DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG ELEKTRISCHER SCHALTUNGSTRÄGER
(EN) PROCESS FOR MANUFACTURING ELECTRICAL CIRCUIT BASES
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE SUPPORTS DE CIRCUITS ELECTRIQUES
Zusammenfassung
(DE)
Zur Herstellung elektrischer Schaltungsträger mit feinsten Leiterzügen werden nicht mit Metallfolien versehene Laminate als Ausgangsmaterialien verwendet, zur Erzeugung der Löcher vorübergehend eine Metallschicht auf die Laminatoberflächen aufgebracht, diese strukturiert, geätzt und nach dem Ätzen der Löcher im Laminat wieder von den Laminatoberflächen entfernt. Anschließend wird zur Bildung der Leiterzüge eine Grund-Metallschicht durch Zersetzen flüchtiger Metallverbindungen mittels Glimmentladung auf den Laminatoberflächen einschließlich der Lochwände abgeschieden. Auf diese Schichten werden weitere Metallschichten stromlos und/oder elektrolytisch aufgebracht. Die Metallschichten werden durch Photomaskentechnik strukturiert.
(EN)
To manufacture electrical circuit bases with extremely fine conducting paths, laminates without metal foil coverings are used as the initial materials; to produce the holes, a temporary metal layer is applied to the laminate surfaces, that metal layer is structured and etched and removed from the laminate surfaces once the holes have been etched in the laminate. A foundation metal layer is then deposited on the laminate surfaces, including the hole walls, to create the conducting paths; this is done by the glow discharge decomposition of volatile metal compounds. Further metal layers are applied to those layers without current and/or electrolytically. The metal layers are structured using photomask techniques.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication de supports de circuits électriques présentant des tracés conducteurs extrêmement fins. Ledit procédé consiste à utiliser, comme matériaux de départ, des stratifiés sans feuilles métalliques, à déposer, afin de produire les trous, une couche métallique provisoire sur les surfaces du stratifié, à la structurer, à l'attaquer chimiquement puis à la séparer à nouveau des surfaces du stratifié après attaque des trous dans le stratifié. Ce procédé consiste ensuite à déposer une couche métallique de base, par décomposition de composés métalliques volatils au moyen d'une décharge lumineuse, sur les surfaces du stratifié, y compris les parois des trous, pour former des tracés conducteurs. D'autres couches métalliques sont appliquées, sans courant et/ou par voie électrolytique, sur ces couches. Les couches métalliques sont structurées au moyen de masques de photogravure.
Auch veröffentlicht als
DE19581162
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