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1. (WO1995032455) TROCKENENTWICKELBARER POSITIVRESIST
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1995/032455    Internationale Anmeldenummer    PCT/DE1995/000626
Veröffentlichungsdatum: 30.11.1995 Internationales Anmeldedatum: 11.05.1995
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    13.12.1995    
IPC:
G03F 7/038 (2006.01)
Anmelder: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, D-80333 München (DE) (For All Designated States Except US).
SEZI, Recai [TR/DE]; (DE) (For US Only).
LEUSCHNER, Rainer [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BORNDÖRFER, Horst [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RISSEL, Eva-Maria [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SEBALD, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
AHNE, Hellmut [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BIRKLE, Siegfried [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KÜHN, Eberhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SEZI, Recai; (DE).
LEUSCHNER, Rainer; (DE).
BORNDÖRFER, Horst; (DE).
RISSEL, Eva-Maria; (DE).
SEBALD, Michael; (DE).
AHNE, Hellmut; (DE).
BIRKLE, Siegfried; (DE).
KÜHN, Eberhard; (DE)
Prioritätsdaten:
P 44 18 205.8 25.05.1994 DE
Titel (DE) TROCKENENTWICKELBARER POSITIVRESIST
(EN) DRY-DEVELOPABLE POSITIVE RESIST
(FR) RESIST POSITIF DEVELOPPABLE A SEC
Zusammenfassung: front page image
(DE)Ein trockenentwickelbarer, positiv arbeitender TSI-Resist enthält folgende Komponenten: ein geeignetes Lösungsmittel, einen starken Säurebildner als photoaktive Komponente und ein Basispolymer in Form eines Co- oder Terpolymers mit Maleinsäureanhydrid als einen Grundbaustein und Glycidylmethacrylat und/oder einem Styrolderivat als weiteren Grundbaustein sowie gegebenenfalls ein Additiv.
(EN)A dry-developable positively acting TSI resist contains the following components: a suitable solvent; a strong acid former as the photo-active component; and a basic polymer in the form of a copolymer or terpolymer with maleic acid anhydride as a basic component and glycidyl methacrylate and/or a styrene derivative as a further component and possibly an additive.
(FR)Résist TSI à action positive, renfermant les composants suivants: un solvant approprié, un composé générateur d'acide fort, en tant que composant photo-actif, et un polymère de base, sous forme d'un copolymère ou d'un terpolymère renfermant de l'anhydride d'acide maléique comme composant de base et du glycidylméthacrylate et/ou un dérivé du styrène comme autre composant et, le cas échéant, un adjuvant.
Designierte Staaten: CN, JP, KR, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)