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1. (WO1995019637) TEILCHEN-, INSBESONDERE IONENOPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1995/019637    Internationale Anmeldenummer    PCT/AT1995/000003
Veröffentlichungsdatum: 20.07.1995 Internationales Anmeldedatum: 12.01.1995
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    02.08.1995    
IPC:
H01J 37/12 (2006.01), H01J 37/30 (2006.01)
Anmelder: IMS IONEN MIKROFABRIKATIONS SYSTEME GESELLSCHAFT MBH [AT/AT]; Schreygasse 3, A-1020 Wien (AT) (For All Designated States Except US).
STENGL, Gerhard [DE/AT]; (AT) (For US Only).
CHALUPKA, Alfred [AT/AT]; (AT) (For US Only).
VONACH, Herbert [AT/AT]; (AT) (For US Only)
Erfinder: STENGL, Gerhard; (AT).
CHALUPKA, Alfred; (AT).
VONACH, Herbert; (AT)
Vertreter: MATSCHNIG, Franz; Siebensterngasse 54, A-1071 Wien (AT)
Prioritätsdaten:
A 47/94 13.01.1994 AT
Titel (DE) TEILCHEN-, INSBESONDERE IONENOPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM
(EN) PARTICLE BEAM, IN PARTICULAR IONIC OPTIC REPRODUCTION SYSTEM
(FR) SYSTEME DE REPRODUCTION PAR FAISCEAUX DE PARTICULES, NOTAMMENT SYSTEME DE REPRODUCTION OPTIQUE IONIQUE
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Teilchen-, insbes. ionenoptisches Abbildungssystem, bevorzugt für Lithographiezwecke, mit einer Teilchen-, insbes. Ionenquelle zur Abbildung einer auf einer Maskenfolie befindlichen Struktur in Gestalt einer oder mehrerer transparenter Stellen, insbesondere Öffnungen über mindestens zwei in Strahlrichtung vor einem Wafer angeordnete elektrostatische Linsen auf den Wafer, wobei eine der Linsen eine sogenannte Gitterlinse ist, welche von einer oder zwei Rohrelektroden R1, R2 und einer im Strahlengang angeordneten Platte mit Öffnungen gebildet ist, wobei die Platte normal zur optischen Achse D angeordnet ist. Die Platte ist von einer Maskenfolie M gebildet, welche die mittlere oder die in Strahlrichtung erste Elektrode der Gitterlinse bildet.
(EN)A particle beam, in particular an ionic optic reproduction system, preferably for lithographic purposes, has a particle source, in particular an ion source for reproducing on a wafer a structure designed in a masking foil as one or several transparent spots, in particular openings, through at least two electrostatic lenses arranged upstream of the wafer. One of the lenses is a so-called grating lens constituted by one or two tubular electrodes (R1, R2) and by a perforated plate arranged in the path of the beam perpendicularly to the optical axis D. The plate is formed by a masking foil M which forms the central or first electrode of the grating lens, in the direction of propagation of the beam.
(FR)Un système de reproduction par faisceaux de particules, notamment un système de reproduction optique ionique à des fins lithographiques, comprend une source de particules, notamment d'ions, qui sert à reproduire sur une plaquette une structure faisant partie d'une pellicule de masquage et constituée d'un ou plusieurs endroits transparents, notamment des ouvertures, à travers au moins deux lentilles électrostatiques situées en amont de la plaquette. Une des lentilles est une lentille dite à réseau constituée d'une ou de deux électrodes tubulaires (R1, R2) et d'une plaque perforée située dans la trajectoire du faisceau perpendiculairement à l'axe optique D. La plaque est constituée d'une pellicule de masquage M qui forme l'électrode centrale ou la première électrode de la lentille à réseau dans le sens de rayonnement du faisceau.
Designierte Staaten: CN, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)