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1. (WO1995018991) VERFAHREN ZUM STUFENWEISEN AUFBAU VON MIKROSTRUKTURKÖRPERN UND DAMIT HERGESTELLTER MIKROSTRUKTURKÖRPER
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1995/018991    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/EP1994/003746
Veröffentlichungsdatum: 13.07.1995 Internationales Anmeldedatum: 11.11.1994
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    20.06.1995    
IPC:
B29C 67/00 (2006.01), F15C 5/00 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH [DE/DE]; Weberstrasse 5, D-76133 Karlsruhe (DE) (For All Designated States Except US).
MICROPARTS GESELLSCHAFT FÜR MIKROSTRUKTURTECHNIK MBH [DE/DE]; Hauerstrasse 7, D-44227 Dortmund (DE) (For All Designated States Except US).
SCHUBERT, Klaus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
NEUMANN, Heike [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHULZ, Joachim [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BIER, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KAPITZA, Norbert [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SCHUBERT, Klaus; (DE).
NEUMANN, Heike; (DE).
SCHULZ, Joachim; (DE).
BIER, Wilhelm; (DE).
KAPITZA, Norbert; (DE)
Vertreter: GOTTLOB, Peter; Kernforschungszentrum Karlsruhe GmbH, Stabsabteilung Patente und Lizenzen, Weberstrasse 5, D-76133 Karlsruhe (DE)
Prioritätsdaten:
P 44 00 315.3 07.01.1994 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUM STUFENWEISEN AUFBAU VON MIKROSTRUKTURKÖRPERN UND DAMIT HERGESTELLTER MIKROSTRUKTURKÖRPER
(EN) MICROSTRUCTURED BODY GRADUAL CONSTRUCTION PROCESS AND THUS PRODUCED MICROSTRUCTURED BODIES
(FR) PROCEDE DE CONSTRUCTION GRADUELLE DE CORPS MICROSTRUCTURES ET CORPS MICROSTRUCTURES AINSI PRODUITS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum stufenweisen Aufbau von Mikrostrukturkörpern sowie einen so hergestellten Mikrostrukturkörper mittels lithographischer Methoden, bei dem strahlungsempflindliche Schichten zu einem festen Stapel bis zu einer Höhe übereinander gebracht werden, wobei jede Schicht nach ihrem Aufbringen über eine strukturierte Maske bestrahlt wird, und bei dem die bestrahlten Bereiche der Schichten mittels einer Einwicklerlösung entfernt werden. Nach dem Bestrahlen je einer Schicht wird deren gesamte, freie Oberfläche metallisiert, ausgenommen die freie Oberfläche der zuletzt aufgebrachten Schicht; danach wird der Entwicklerlösung zugängliche, strahlungsempfindliche Schicht entwickelt, und die Metallschicht auf der durch das Entwickeln partiell freigelegten Oberfläche der darunterliegenden strahlungsempfindlichen Schicht weggeätzt.
(EN)A process is disclosed for gradually constructing microstructured bodies by lithographic methods, as well as the thus produced microstructured bodies. Radiation-sensitive layers are stacked up to a certain height, each layer is irradiated through a structured mask after being deposited on the stack, and the irradiated areas of the layers are removed by a developer solution. After each layer is irradiated, their total free surface is metallised, except for the free surface of the last applied layer. The radiation-sensitive layer accessible to the developer solution is then developed, and the metallic layer on the surface of the underlying radiation-sensitive layer partially exposed by the development process is etched away.
(FR)L'invention concerne un procédé de construction graduelle de corps microstructurés par des procédés lithographiques, ainsi que les corps microstructurés ainsi produits. Des couches sensibles aux rayonnements sont empilées jusqu'à une hauteur déterminée, chaque couche est irradiée à travers un masque structuré après avoir été déposée et les zones irradiées des couches sont enlevées par une solution de révélateur. Chaque fois qu'une couche est irradiée, leur surface libre totale est métallisée, à l'exception de la surface libre de la couche appliquée en dernier. La couche sensible aux rayonnements accessible à la solution de révélateur est ensuite révélée et la couche métallique partiellement dégagée par le processus de révélation sur la surface de la couche sous-jacente sensible aux rayonnements est enlevée par gravure.
Designierte Staaten: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)