WIPO logo
Mobil | Englisch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen
World Intellectual Property Organization
Suche
 
Durchsuchen
 
Übersetzen
 
Optionen
 
Aktuelles
 
Einloggen
 
Hilfe
 
Maschinelle Übersetzungsfunktion
1. (WO1995006943) CD-MASTERINGVERFAHREN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1995/006943    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP1994/002209
Veröffentlichungsdatum: 09.03.1995 Internationales Anmeldedatum: 06.07.1994
IPC:
G03F 7/30 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01)
Anmelder: SONOPRESS PRODUKTIONSGESELLSCHAFT FÜR TON- UND INFORMATIONSTRÄGER MBH [DE/DE]; Carl-Bertelsmann-Strasse 161, D-33332 Gütersloh (DE) (For All Designated States Except US).
SCHIEWE, Hilmar [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: SCHIEWE, Hilmar; (DE)
Vertreter: PRIETSCH, Reiner; Schäufeleinstrasse 7, D-80687 München (DE)
Prioritätsdaten:
P 43 29 712.9 02.09.1993 DE
Titel (DE) CD-MASTERINGVERFAHREN
(EN) CD MASTERING PROCESS
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE MATRICES POUR DISQUES COMPACTS
Zusammenfassung: front page image
(DE)Ein verbessertes CD-Masteringverfahren ermöglicht es, von der üblicherweise erfüllten Symmetriebedingung der Längen gleichartiger Pits und Lands bewußt, z.B. zu Testzwecken, abzuweichen. Hierzu wird das Verhältnis der Dauer der H-Pegel zu der Dauer der L-Pegel des Steuersignals für den den Master belichtenden Laserstrahl zumindest zeitweise von dem Wert 1,0 verschieden gemacht. Eine Weiterbildung des Verfahrens ermöglicht es, durch gleichzeitige Einflußnahme auf die Entwicklungszeit der belichteten Photolackschicht die Breite und/oder die Flankensteilheit der Pits unabhängig voneinander und unabhängig von der Pitlänge zu verändern.
(EN)An improved CD mastering process makes it possible to deviate from the symmetry conditions usually met for the lengths of equal pits and lands, e.g. for test purposes. To this end the relationship between the duration of the H and L levels of the control signal for the laser beam impinging on the master is varied from the value 1.0 at least from time to time. In a further embodiment of the invention, simultaneoulsly acting on the development time of the exposed photosensitive resist makes it possible to change the width and/or edge steepness of the pits mutually independently and independently of the pit length.
(FR)L'invention concerne un procédé amélioré de production de matrices pour disques compacts qui permet de s'écarter sciemment des conditions de symétrie généralement remplies en ce qui concerne les longueurs de creux et d'îlots similaires, par ex. en vue de tests. A cet effet, on peut faire varier par rapport à la valeur 1,0, au moins par moments, le rapport de la durée des niveaux H à la durée des niveaux L du signal de commande pour le faisceau laser appliqué sur le disque matrice. Une autre variante de l'invention permet en outre de modifier la largeur et/ou la pente des creux indépendamment les uns des autres et indépendamment de leur longueur, par action simultanée sur le temps de développement de la couche photosensible exposée.
Designierte Staaten: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)