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1. (WO1995005003) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT VON WAFERMAGAZINEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1995/005003    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP1994/002447
Veröffentlichungsdatum: 16.02.1995 Internationales Anmeldedatum: 25.07.1994
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
Anmelder: JENOPTIK GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 1, D-07743 Jena (DE) (For All Designated States Except US).
ADLER, Erich [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAGES, Marlies [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: ADLER, Erich; (DE).
MAGES, Marlies; (DE)
Vertreter: GEYER, Werner; Geyer, Fehners & Partner, Perhamerstrasse 31, D-80687 München (DE)
Prioritätsdaten:
P 43 26 309.7 05.08.1993 DE
Titel (DE) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT VON WAFERMAGAZINEN
(EN) DEVICE FOR TRANSPORTING WAFER MAGAZINES
(FR) DISPOSITIF DE TRANSPORT POUR MAGASINS A GALETTES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einer Vorrichtung zum Transport von Wafermagazinen besteht die Aufgabe, auch für eine Lösung, bei der eine Manipulationseinrichtung über zwei voneinander trennbare beziehungsweise wahlweise zusammensetzbare Bereiche wirken muß, eine durch die Manipulation mögliche Partikelgenerierung und eine Störung der Laminarströmung des Reinstraumes durch die Manipulationseinrichtung weitgehend auszuschließen. Gemäß der Erfindung ist zur Umsetzung des Magazins von einer Abstellposition zu einem Bearbeitungsplatz an einer tragenden Säule, deren Abstand zu einem Fahrstuhlantrieb eine Luftdurchtrittsöffnung darstellt, ein in Fahrtrichtung des Fahrstuhles höhenverstellbarer Linearantrieb für einen starren Greiferarm befestigt, dessen Aktionsbereich oberhalb des sich in der Abstellposition befindlichen Magazins liegt und senkrecht zur Fahrtrichtung des Fahrstuhles gerichtet ist. Alle Antriebsteile sind durch eine staubdichte Kapselung vom Reinstraum getrennt, und an Öffnungen, durch die Transportelemente in den Reinstraum ragen, grenzen Absaugeinrichtungen an. Die Erfindung ermöglicht die Aus- und Nachrüstung von Halbleiterfertigungsanlagen mit einem SMIF-System.
(EN)In a device for transporting wafer magazines, one must exclude to a large extent any generation of particles caused by handling and any disturbances of the laminar flow in the clean room caused by the handling device, even if the handling device must work through two areas that may be separated or selectively joind together. In order to transfer the magazine from a storage position to a processing station, a linear drive for a fixed gripper arm that may be vertically adjusted in the direction of displacement of a lift is secured to a bearing column spaced away from the lift drive so as to form an air passage. The action range of the fixed gripper arm lies above the magazine located in the storage position and is perpendicular to the travelling direction of the lift. All parts of the drive are separated from the clean room by a dust-proof cladding and suction arrangements are arranged next to the openings through which the transport elements project into the clean room. The invention allows semiconductor manufacturing plants to be equipped or retrofitted with a SMIF-system.
(FR)Dans un dispositif de transport pour magasins à galettes il faut largement exclure, même lorsqu'un dispositif de manipulation doit agir à travers de deux zones séparables et, au choix, assemblables - la génération éventuelle de particules par la manipulation et une perturbation de l'écoulement laminaire de la chambre propre due au dispositif de manipulation. Selon l'invention, pour transférer le magasin d'une position de dépôt à un lieu d'usinage, une colonne portante, dont la distance par rapport à un entraînement d'ascenseur représente un passage d'air, supporte un entraînement linéaire réglable en hauteur dans le sens de marche de l'ascenseur et destiné à un bras d'accrochage rigide dont le rayon d'action se trouve au-dessus du magasin en position de dépôt et perpendiculairement au sens de la marche de l'ascenseur. Tous les ensembles d'entraînement sont séparés de la chambre propre par un blindage étanche aux poussières, et des dispositifs d'aspiration sont adjacents aux ouvertures à travers lequels les éléments de transport dépassent dans la chambre propre. Cette invention permet l'équipement et l'adaptation d'installations de fabrication de semi-conducteurs avec un système d'interface mécanique standard.
Designierte Staaten: KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)