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1. (WO1993018069) VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG DÜNNER, MIKROPORENFREIER, LEITENDER POLYMERSCHICHTEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1993/018069    Internationale Veröffentlichungsnummer:    PCT/DE1993/000205
Veröffentlichungsdatum: 16.09.1993 Internationales Anmeldedatum: 08.03.1993
IPC:
C08F 2/52 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01)
Anmelder: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstraße 54, D-80636 München (DE) (For All Designated States Except US).
KRUSE, Alexander [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HENNECKE, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Erfinder: KRUSE, Alexander; (DE).
HENNECKE, Manfred; (DE)
Prioritätsdaten:
P 42 07 422.3 09.03.1992 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG DÜNNER, MIKROPORENFREIER, LEITENDER POLYMERSCHICHTEN
(EN) PROCESS FOR GENERATING THIN, MICROPORE-FREE, CONDUCTIVE POLYMER LAYERS
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE DES COUCHES DE POLYMERE CONDUCTRICES, FINES ET SANS MICROPORES
Zusammenfassung: front page image
(DE)Bei einem Verfahren zur Erzeugung dünner, mikroporenfreier, leitender Polymerschichten mittels Plasmapolymerisation dazu geeigneter Monomere unter Ausbildung dotierter dreidimensionaler Netzwerkstrukturen wird das Dotierungsmittel in an das Monomer chemisch gebundener Form in die Plasmapolymerisation eingebracht, daraus durch Einwirkung des Plasmas unmittelbar vor der Polymerbildung freigesetzt und in die sich bildende Plasmapolymerschicht eingelagert.
(EN)A process is disclosed for generating thin, micropore-free, conductive polymer layers by plasma polymerization of appropriate monomers, with formation of doped three-dimensional network structures. The doping agent is introduced into plasma polymerization in a chemically bound form to the monomer, is released therefrom under the influence of the plasma just before the polymer is formed and deposits itself in the forming plasma polymer layer.
(FR)Dans un procédé permettant de produire des couches de polymère conductrices, fines et sans micropores, par polymérisation au plasma de monomères appropriés à cet effet, avec formation de structures réticulées tridimensionnelles dopées, l'agent de dopage est introduit dans la polymérisation au plasma sous une forme chimiquement liée au monomère. L'agent de dopage est libéré juste avant la formation du polymère par l'action du plasma et se dépose dans la couche de polymère plasmique en formation.
Designierte Staaten: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)