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1. (WO1992010327) VERFAHREN ZUM WARTUNGSARMEN BETRIEB EINER VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINER OBERFLÄCHENSTRUKTUR UND VORRICHTUNG
Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

Patentansprüche

1. Verfahren zum wartungsarmen Betrieb einer Vorrichtung zum Erzeugen von Oberflächenstrukturen auf einer Walze mittels eines Elektronenstrahles, bei dem der Elektronenstrahl zur Veränderung seiner Bündelung von einer
Fokussierung beaufschlagt wird, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Teilbereich einerden Ausbreitungsweg des Elektronenstrahles (3) mindestens bereichsweise
umschließenden Ummantelung während mindestens eines

Reinigungsintervallesvom Elektronenstrahl (3) erhitzt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl (3) während des Reinigungsintervalles relativ zur Walze (2) defokussiert wird.

3. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Bereich der Ummantelung während des Reinigungsintervalles geglüht wird.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß während des Reinigungsintervalles ein Bereich einer Düse (39) geglüht wird, welche in einer eine Strahleinrichtung (7) von einer Vakuumkammer (6) trennenden Wandung (59) der

Strahleinrichtung (7) angeordnet ist.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß im wesentlichen ein in Richtung auf die Walze (2) angeordnetes Endsegment (69) der Düse (39) geglüht wird.

6. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Erhitzung der
Ummantelung zyklisch durchgeführt wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Reinigungsintervall jeweils innerhalb des Zeitraumes liegt, der für den Positionswechsel des Elektronenstrahles (3) von einem Beaufschlagungsort zum einem anderen
Beaufschlagungsort im Oberflächenbereich der Walze (2) benötigt wird.

8. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) im Bereich einer Düsenbasis (67) während des Reinigungsintervalles über einen Wärmekontakt mit der Wandung (59) gekühlt wird.

9. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß für das Reinigungsintervall ein Zeitraum von etwa fünf bis zwanzig Mikrosekunden
vorgesehen wird.

10. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) zur Vermeidung von elektrostatischen Aufladungen elektrisch mit einem Ableitungsanschluß (72) verbunden wird.

11. Vorrichtung zum Erzeugen von Oberflächenstrukturen auf einer Walze mit einem Elektronenstrahl, die eine Strahleinrichtung mit einem den Elektronenstrahl erzeugenden Strahlgenerator, einer Brennweiteneinstellung und mit einer Fokussierung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich einer Wandung (59) der Strahleinrichtung (7), welche die Strahleinrichtung (7) von einer die Walze (2) auf- nehmenden Vakuumkammer (6) trennt, eine den Durchtritt des Elektronenstrahles (3) ermöglichende Düse (39)
angeordnet ist, deren Innendurchmesser so gewählt ist, daß derdefokussierte Elektronenstrahl (3) mindestens einen Teil eines Düsenmantels (62) der Düse (39) beaufschlagt.

12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Fokussierung (12) zur Beaufschlagung der Düse (39) mit Randelektronen des Elektronenstrahles (3) mit einer
Linsenansteuerung (50) verbunden ist, welche sowohl die
Bündelung als auch die Aufweitung des Elektronenstrahles (3) steuert.

13. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 11 und
12, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) die Wandung

(59) in Richtung auf die Vakuumkammer (6) überkragt.

14. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) einen einen
Düsenkanal (63) umgebenden Düsenmantel (62) aufweist, der im wesentlichen aus einer in der Wandung (59)
gehalterten Düsen basis (67) und einem der Vakuumkammer (6) zugewandten Endsegment (69) besteht, das über eine
Verjüngung (68) mit der Düsenbasis (67) verbunden ist.

15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Verjüngung (68) radial von einer dem Düsen kanal
(63) zugewandt angeordneten Nut (70) begrenzt ist.

16. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet. daß die Verjüngung (68) radial von einer dem Düsenkanal
(63) abgewandten Nut (70) begrenzt ist.

17. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) mindestens
bereichsweise aus Tantal besteht.

18. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) mindestens
bereichsweise aus Stahl besteht.

19. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse (39) einen Wärme- übergang zulassend in die Wandung (59) eingesetzt ist, und daß die Wandung (59) mindestens eine Kühlmittelleitung (71) aufweist.