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1. (WO1992010327) VERFAHREN ZUM WARTUNGSARMEN BETRIEB EINER VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINER OBERFLÄCHENSTRUKTUR UND VORRICHTUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/1992/010327 Internationale Anmeldenummer PCT/DE1991/000968
Veröffentlichungsdatum: 25.06.1992 Internationales Anmeldedatum: 13.12.1991
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 02.07.1992
IPC:
B23K 15/08 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
23
Werkzeugmaschinen; Metallbearbeitung, soweit nicht anderweitig vorgesehen
K
Löten; Schweißen; Beschichten oder Plattieren durch Löten oder Schweißen; Schneiden durch örtliches Zuführen von Hitze, z.B. Brennschneiden; Arbeiten mit Laserstrahlen
15
Schweißen oder Schneiden mittels Ladungsträgerstrahlen
08
Materialabtragung, z.B. durch Schneiden, durch Bohren
Anmelder:
LINOTYPE-HELL AG [DE/DE]; Mergenthaler Allee 55-75 D-6236 Eschborn, DE (AllExceptUS)
SERMUND, Gerald [DE/DE]; DE (UsOnly)
Erfinder:
SERMUND, Gerald; DE
Vertreter:
LEUFER, Hans Günter; Linotype-Hell AG Patentabteilung Siemenswall Postfach 24 60 D-2300 Kiel 1, DE
Prioritätsdaten:
P 40 40 201.015.12.1990DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUM WARTUNGSARMEN BETRIEB EINER VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINER OBERFLÄCHENSTRUKTUR UND VORRICHTUNG
(EN) PROCESS FOR THE LOW-MAINTENANCE OPERATION OF A DEVICE FOR PRODUCING A SURFACE STRUCTURE, AND DEVICE
(FR) PROCEDE POUR L'EXPLOITATION, AVEC UN ENTRETIEN REDUIT, D'UN DISPOSITIF POUR LA REALISATION D'UNE STRUCTURE DE SURFACE, ET DISPOSITIF
Zusammenfassung:
(DE) Bei dem Verfahren zum Betrieb einer Vorrichtung, die mit einem Elektronenstrahl Ausnehmungen auf einer Walze erzeugt, wird der Elektronenstrahl zur Veränderung seiner Bündelung von einer Fokussierung beaufschlagt. Mindestens ein Bereich einer den Ausbreitungsweg des Elektronenstrahles mindestens bereichsweise umschließenden Ummantelung wird während mindestens eines Reinigungsintervalles vom Elektronenstrahl erhitzt. Die Vorrichtung zur Erzeugung einer Oberflächenstruktur im Bereich einer zur Beaufschlagung eines Materials vorgesehenen Walze weist eine Strahleinrichtung auf. In der Strahleinrichtung sind ein den Elektronenstrahl erzeugender Strahlgenerator, eine Brennweiteneinstellung sowie eine Fokussierung angeordnet. Im Bereich einer die Strahleinrichtung von einer die Walze aufnehmenden Vakuumkammer trennenden Wandung ist eine Düse angeordnet, die den Durchtritt des Elektronenstrahles ermöglicht. Die Düse weist einen Innendurchmesser auf, der eine Beaufschlagung mindestens eines Teils eines Düsenmantels mit dem defokussierten Elektronenstrahl ermöglicht.
(EN) In the process for operating a device which produces recesses on a roller using an electron beam, the electron beam is focused to alter its concentration. At least one region of a casing around the propagation path of the electron beam at least locally is heated by the electron beam during at least one cleaning interval. The device for producing a surface structure in the region of a roller designed for exposure of a material has a beam device. In the beam device are arranged a beam generator producing an electron beam, a focal length adjuster and a focusing system. In the region of a wall separating off a vacuum chamber containing the roller from the beam device is a nozzle facilitating the penetration of the electron beam. The inside diameter of the nozzle is such that it facilitates the application of the defocused electron beam to at least one part of a nozzle casing.
(FR) Dans le procédé pour l'exploitation d'un dispositif produisant des évidements sur un cylindre au moyen d'un faisceau d'électrons, le faisceau d'électrons est soumis à une focalisation destinée à modifier sa concentration. Une zone au moins d'une enveloppe entourant au moins des zones du parcours du faisceau d'électrons est chauffée par le faisceau d'électrons pendant au moins une période de nettoiement. Le dispositif pour la réalisation d'une structure de surface d'un cylindre destiné à l'exposition d'un matériau présente un système de faisceau. Dans le système de faisceau d'électrons sont disposés une source de faisceau produisant le faisceau d'électrons, un système de réglage de la distance focale et un système de focalisation. Au niveau d'une paroi séparant le système de faisceau de la chambre à vide recevant le cylindre est disposée une buse qui permet le passage du faisceau d'électrons. La buse présente un diamètre intérieur qui permet d'exposer au moins une partie de l'enveloppe de la buse au faisceau d'électrons défocalisé.
Designierte Staaten: AU, CA, JP, KP, US
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
ES2069989EP0561975US5459296JPH06503038AU1991090775