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1. (WO1991019827) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESCHICHTEN VON SUBSTRATMATERIAL
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten

Veröff.-Nr.: WO/1991/019827 Internationale Anmeldenummer PCT/EP1991/001075
Veröffentlichungsdatum: 26.12.1991 Internationales Anmeldedatum: 08.06.1991
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen: 15.01.1992
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/28 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24
Vakuumbedampfen
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24
Vakuumbedampfen
28
durch Wellenenergie oder Teilchenbestrahlung
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
56
für kontinuierliches Beschichten besonders angepasste Vorrichtungen; Einrichtungen zur Aufrechterhaltung des Vakuums, z.B. Vakuumschleusen
Anmelder:
DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT E.V. [DE/DE]; Postfach 90 60 58 D-5000 Köln 90, DE (AllExceptUS)
VOEST-ALPINE STAHL LINZ GMBH [AT/AT]; Turmstraße 41 A-4020 Linz, AT (AllExceptUS)
OPOWER, Hans [DE/DE]; DE (UsOnly)
KÖSTERS, Kurt [AT/AT]; AT (UsOnly)
EBNER, Reinhold [AT/AT]; AT (UsOnly)
Erfinder:
OPOWER, Hans; DE
KÖSTERS, Kurt; AT
EBNER, Reinhold; AT
Vertreter:
BECK, Jürgen ; Hoeger, Stelbrecht & Partner Ulandstrasse 14 c D-70182 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
P 40 19 824.321.06.1990DE
P 40 19 965.722.06.1990DE
Titel (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESCHICHTEN VON SUBSTRATMATERIAL
(EN) PROCESS AND DEVICE FOR COATING SUBSTRATE MATERIAL
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF D'ENDUCTION DE SUBSTRATS
Zusammenfassung:
(DE) Um ein Verfahren zum Beschichten von Substratmaterial, bei welchem in einer Unterdruck aufweisenden Beschichtungskammer (160) Beschichtungsmaterial (168) in einem Ablationsbereich von einem Laserstrahl (166) ablatiert wird, sich in Form eines Beschichtungsteilchenstroms (170) in Richtung des Substratmaterials (24) ausbreitet und auf diesem in Form einer Beschichtung (172) abgeschieden wird, zu schaffen, bei welchem Substratmaterial in grossen Mengen durch Laserablation beschichtet werden kann, wird vorgeschlagen, dass das Substratmaterial Flachzeug ist, dass das Flachzeug als Endlosband durch die Beschichtungskammer kontinuierlich im wesentlichen unter Aufrechterhaltung des Unterdrucks hindurchgeführt und dabei beschichtet wird und dass der Beschichtungskammer das erforderliche Beschichtungsmaterial im wesentlichen unter Aufrechterhaltung des Unterdrucks zugeführt wird.
(EN) In a process for coating substrate material, coating material (168) is ablated in an ablation region by a laser beam in a coating chamber (160) under partial vacuum, and spreads in the form of a coating particle stream (170) in the direction of the substrate material (24), on which it is deposited in the form of a coating (172). Large quantities of substrate material can be coated. To this end, the substrate material is flat cloth, the flat cloth is passed in a continuous strip through the coating chamber, in which the partial vacuum is substantially maintained, and coated, and the coating material required is introduced into the coating chamber, in which the partial vacuum is substantially maintained.
(FR) Selon un procédé d'enduction de substrats, le matériau d'enduction (168) contenu dans une chambre d'enduction (160) sous dépression est soumis à une ablation par un faisceau laser (166) dans une zone d'ablation, se propage sous forme d'un courant (170) de particules d'enduction dans la direction du substrat (24) et dépose sur celui-ci sous forme d'un enduit (172). Afin d'obtenir un procédé qui permette d'enduire par ablation au laser de grandes quantités de substrat, le substrat est plat, conduit en continu, pendant qu'il est enduit, sous forme d'une bande sans fin, à travers la chambre d'enduction essentiellement sous dépression. Le matériau d'enduction requis est amené à la chambre d'enduction essentiellement sous dépression.
Designierte Staaten: AU, CA, JP, KR, SU, US
Europäisches Patentamt (EPA) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)
Auch veröffentlicht als:
EP0535019JPH05507965KR1019937001632AU1991079585