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1. (WO1991019673) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON NATRIUMSILIKATLÖSUNGEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/1991/019673    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP1991/001103
Veröffentlichungsdatum: 26.12.1991 Internationales Anmeldedatum: 13.06.1991
Antrag nach Kapitel 2 eingegangen:    30.11.1991    
IPC:
C01B 33/32 (2006.01), C03C 1/00 (2006.01), C03C 1/02 (2006.01)
Anmelder: HENKEL KOMMANDITGESELLSCHAFT AUF AKTIEN [DE/DE]; Henkelstraße 67, D-40191 Düsseldorf (DE)
Erfinder: NOVOTNY, Rudolf; (DE).
KUHR, Wilhelm; (DE).
SCHÜRTZ, Jost; (DE)
Allgemeiner
Vertreter:
HENKEL KOMMANDITGESELLSCHAFT AUF AKTIEN; TFP-Patentabteilung, Henkelstraße 67, D-4000 Düsseldorf 13 (DE)
Prioritätsdaten:
P 40 19 789.1 21.06.1990 DE
Titel (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON NATRIUMSILIKATLÖSUNGEN
(EN) PROCESS FOR PREPARING SODIUM SILICATE SOLUTIONS
(FR) PROCEDE POUR LA FABRICATION DE SOLUTIONS DE SILICATE DE SODIUM
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Natriumsilikatlösungen durch hydrothermale Umsetzung von SiO¿2? enthaltenden Rohstoffen mit wäßrigen Natriumhydroxidlösungen bei Temperaturen im Bereich von 100 bis 300 °C und den diesen Temperaturen entsprechenden Drücken von gesättigtem Wasserdampf in einem Druckreaktor, dadurch gekennzeichnet, daß man als SiO¿2?-Rohstoff Glas verwendet.
(EN)The invention relates to a process for preparing sodium silicate solutions by hydrothermal reaction of raw materials containing SiO¿2? with aqueous sodium hydroxide solutions at temperature between 100 and 300 °C and at the saturated water vapour pressures corresponding to these temperatures in a pressure reactor, characterized in that the SiO¿2?-containing raw material used is glass.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé pour la fabrication de solutions de silicate de sodium par réaction hydrothermale de matières brutes contenant du SiO¿2? avec des solutions aqueuses d'hydroxyde de sodium à des températures comprises entre 100 et 300 °C et à des pressions, correspondant à ces températures, de vapeur d'eau saturée dans un réacteur à fluide sous pression, caractérisé en ce que comme matière brute de SiO¿2? on utilise du verre.
Designierte Staaten: European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)