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1. KR1020220058671 - 나노구조를 엠보싱하기 위한 방법 및 장치

Amt
Republik Korea
Aktenzeichen/Anmeldenummer 1020227014424
Anmeldedatum 22.04.2014
Veröffentlichungsnummer 1020220058671
Veröffentlichungsdatum 09.05.2022
Veröffentlichungsart A
IPC
G03F 7/00
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
CPC
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Anmelder 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하
Erfinder 크라인들, 제랄드
Vertreter 강명구
Titel
(KO) 나노구조를 엠보싱하기 위한 방법 및 장치
Zusammenfassung
(KO) 본 발명은 나노구조 펀치(5)로부터 나노구조(13)를, 기판(7)에 제공된 경화성 재료(8)의 펀치 표면(14)에 엠보싱하기 위한 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은, 특히 다음의 순서로: - 나노구조(13)를 펀치 표면(14)에 대해 정렬하는 단계; - 펀치 표면(14)을 엠보싱하는 단계를 포함하되, 상기 엠보싱 단계는: (A) 나노구조 펀치(5)의 변형에 의해 나노구조 펀치(5)에 사전응력을 제공하거나 및/또는 기판(7)의 변형에 의해 기판(7)에 사전응력을 제공하고, (B) 나노구조 펀치(5)와 펀치 표면(14)의 부분 영역(15)을 접촉시키며, (C) 나노구조 펀치(5)에 사전응력을 제공하거나 및/또는 기판(7)에 사전응력을 제공함으로써, 적어도 부분적으로, 특히, 대부분, 나머지 영역(16)을 자동으로 접촉시켜 수행된다.