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1. (JP4605014) 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法

Amt : Japan
Anmeldenummer: 2005514993T Anmeldedatum: 25.10.2004
Veröffentlichungsnummer: 4605014 Veröffentlichungsdatum: 05.01.2011
Erteilungsnummer: 4605014 Erteilungsdatum: 05.01.2011
Veröffentlichungsart : B2
Frühere PCT-Anm.: Anmeldenummer:WOJP2004015796 ; Veröffentlichungsnummer:WO2005041276 Anklicken zur Anzeige der Daten
IPC:
H01L 21/27
G03F 7/20
[IPC code unknown for H01L 21/27]
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC:
G03F 7/70341
G03F 7/2041
Anmelder: 株式会社ニコン; 東京都千代田区有楽町1丁目12番1号
Erfinder: 今井 基勝
牧野内 進
Prioritätsdaten: 2003366914 28.10.2003 JP
JP2004015796 25.10.2004 WO
Titel: (JA) 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法
Zusammenfassung:
Also published as:
KR1020060128877EP1679738WO/2005/041276