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1. DE102019205271 - Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik

Amt
Deutschland
Aktenzeichen/Anmeldenummer 102019205271
Anmeldedatum 11.04.2019
Veröffentlichungsnummer 102019205271
Veröffentlichungsdatum 15.10.2020
Veröffentlichungsart A1
IPC
G02B 17/00
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
17Systeme mit reflektierenden Flächen, mit oder ohne brechende Elemente
G02B 17/06
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
17Systeme mit reflektierenden Flächen, mit oder ohne brechende Elemente
02Planflächen-Systeme, z.B. Bildaufrichtungs- und -umkehrsysteme
06nur mit Spiegeln
G03F 7/20
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 13/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13Optical objectives specially designed for the purposes specified below
08Anamorphotic objectives
G03F 7/70233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70233Optical aspects of catoptric systems
Anmelder Carl Zeiss SMT GmbH
Erfinder Patra Michael
Migura Sascha
Titel
(DE) Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
Zusammenfassung
(DE)

Eine abbildende Optik (7) für eine Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines Objektfeldes (4) in ein Bildfeld (8). Die Projektionsbelichtungsanlage ist so ausgeführt, dass ein rechteckiges Strukturierungsfeld auf einem abzubildenden Objekt, welches abzubildende Strukturen trägt, durch Verlagerung des Strukturierungsfeldes relativ zum Objektfeld insgesamt in ein Abbildungsfeld abgebildet wird, welches zeitlich abgestimmt zur Objektverlagerung relativ zum Bildfeld verlagert wird. Das Strukturierungsfeld liegt innerhalb eines größeren Objekt-Vorgabefeldes. Letzteres ist von einem der abzubildenden Strukturen tragenden Objekt definiert und ist begrenzt durch eine rechteckige Vorgabefeld-Grundform und konvex abgerundete Vorgabefeld-Eckbereiche. Das Objektfeld (4) ist von zwei zueinander senkrechten Feldrichtungen (x, y) aufgespannt. Die abbildende Optik (7) hat einen ersten Verkleinerungsmaßstab in der ersten Feldrichtung (x), der gegeben ist durch ein Verhältnis der Erstreckungen des Strukturierungsfeldes einerseits und des Abbildungsfeldes andererseits in der ersten Feldrichtung (x). Die abbildende Optik (7) hat einen zweiten Verkleinerungsmaßstab in der zweiten Feldrichtung (y), der gegeben ist durch ein Verhältnis der Erstreckungen des Strukturierungsfeldes einerseits und des Abbildungsfeldes andererseits in der zweiten Feldrichtung (y). Die Verkleinerungsmaßstäbe sind so gewählt, dass eine Fläche des Strukturierungsfeldes maximal 10 % kleiner ist als die Fläche eines größten, rechteckigen Pareto-Strukturierungsfeldes, welches in das Objekt-Vorgabefeld eingepasst werden kann. Es resultiert eine abbildende Optik mit einem gut korrigierten abbildbaren Feld bei gleichzeitig hohem Abbildungslicht-Durchsatz. embedded image


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