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1. CN104884997 - Method for the production of an optical article with improved anti-fouling properties

Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

权利要求书

1.一种用于制造光学物品的方法,该方法包括:
-提供基底,该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团,
-在真空室中在导致将以下材料沉积到该基底的表面上的条件下按此顺序依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少三种不同的材料,其被称为M1、M2、M3,以及任选地材料M4,并且其中:
-M1是取代的硅烷,包含:
o至少一个直接结合到该取代的硅烷的Si原子上的官能团X1,其中该Si-X1基团能够与该基底的OH基团形成共价键,并且包含
o至少一个含氟基团,
-M2是具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷,包含:
o至少一个直接结合到所述取代的硅烷的硅原子上的官能团X2,其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成共价键和/或与M1形成共价键,以及
o至少一个疏水或疏油基团,或至少一个亲水基团,
-其中,M1具有大于M2的重均分子量并且M1与M2重均分子量之间的差值是等于或大于600g/mol,
-M3是金属氟化物。

2.根据权利要求1所述的方法,其中X1是直接结合到该硅原子上的可水解基团或-OH基团。

3.根据权利要求1所述的方法,其中X2是可水解基团或-OH基团。

4.根据权利要求1所述的方法,其中M1与M2重均分子量之间的差值是等于或大于900g/mol。

5.根据权利要求1所述的方法,包括M4沉积。

6.根据权利要求1所述的方法,其中M4是一种非氟化的金属氧化物或金属氢氧化物。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其中该基底是一种包含减反射光学层的透明材料。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其中意指形成一种沉积物的条件包括减压和/或高温中的至少一种。

9.根据权利要求1或2所述的方法,其中意指形成一个层的条件包括真空下的蒸发。

10.根据权利要求1或2所述的方法,其中X1和X2独立地选自一个卤素原子、-NH-烷基、二烷氨基、烷氧基、酰氧基、异氰酸酯基、-OH基团以及-NH 2 基团。

11.根据权利要求1或2所述的方法,其中该含氟基团产生自二价的氟烷基、氟代烯基、聚(氟烷基醚)基团、烷基、烯基的组装。

12.根据权利要求1或2所述的方法,其中M1的数均分子量是等于或大于2000g/mol。

13.根据权利要求1或2所述的方法,其中M1的数均分子量是从3000g/mol至6000g/mol。

14.根据权利要求1或2所述的方法,其中M1的数均分子量是包括在4000g/mol至5000g/mol之间。

15.根据权利要求1或2所述的方法,其中M1选自具有以下式的化合物:
其中R F 表示一个全氟烷基基团,Z表示一个氟原子或三氟甲基基团,a、b、c、d和e各自独立地表示0或等于或大于1的整数,其条件是a+b+c+d+e不小于1,且由下标a、b、c、d和e所括的重复单元在上式中出现的顺序不限于所示那样;Y表示一个氢原子或含1至4个碳原子的烷基基团;X表示一个氢、溴或碘原子;R1表示一个羟基基团、NH 2 基团或可水解取代基;R2表示一个氢原子或一价烃基;I表示0、1或2;m表示1、2或3;并且n”表示一个等于或大于1的整数。

16.根据权利要求1或2所述的方法,其中M1选自具有通式(A)或通式(B)和(C)的化合物:
F-(CF 2 ) q -(OC 3 F 6 ) m -(OC 2 F 4 ) n -(OCF 2 ) o -(CH 2 ) p -X(CH 2 ) r -Si(X') 3-a (R1) a (A)
F-(CF 2 ) q -(OC 3 F 6 ) m -(OC 2 F 4 ) n -(OCF 2 ) o (CH 2 ) p X(CH 2 ) r Si(X') 2-a (R1) a O-[(CF 2 ) q -(OC 3 F 6 ) m -(OC 2 F 4 ) n -(OCF 2 ) o (CH 2 ) p X(CH 2 ) r Si(F)(X') 1-a (R1) a O] z -(CF 2 ) q -(OC 3 F 6 ) m -(OC 2 F 4 ) n -(OCF 2 ) o (CH 2 ) p X(CH 2 ) r Si(F)(X') 2-a (R1) a (B)
F-(CF 2 ) q -(OC 3 F 6 ) m -(OC 2 F 4 ) n -(OCF 2 ) o -(CH 2 ) p -X(CH 2 ) r -(CH 2 ) t -Si(X') 3-a (R1) a (C)
其中q是一个从1至3的整数;m、n、和o独立地是从0至200的整数;p是1或2;X是O或一个二价的有机基团;r是一个从2至20的整数;t是一个从1至10的整数;R1是一个C1-22直链的或支链的烃基;a是一个从0至2的整数;X'是一个可水解基团、-OH基团或–NH 2 基团;并且当a是0或1时,z是一个从0至10的整数。

17.根据权利要求1或2所述的方法,其中M2的数均分子量是低于或等于800g/mol。

18.根据权利要求1或2所述的方法,其中M2选自对应于以下式的非氟化的或氟化的硅烷:
[H-(OCH 2 -CH 2 ) a -(OCH 2 -CH 2 -CH 2 ) a’ -(OCF 2 -CF 2 ) a” -(OCF 2 -CF 2 -CF 2 ) a” ’-(OCHF-CHF) a”” -(OCHF-CHF-CHF) a””‘ ] w X-(CH 2 ) b -(CF 2 ) b’ -Si(R) 3 (D)
其中a、a’、a”、a”’、a””、a””’是从0至2的整数,a+a’+a”+a”’+a””+a””’是至少1,X是O或N或NH,b和b’是从0至10的整数并且b+b’不能小于1,R是一个可水解基团、或者是OH或NH 2 ,由下标a、a’、a”、a”’、a””、a””’、b和b’所括的重复单元在上式中出现的顺序不限于所示那样;w=1或2,取决于X的化合价
以及
F-(CF 2 ) c -(CH 2 ) d -(CF 2 ) e -(CH 2 ) f -Si(R) 3 (E)
以及
H-(CH 2 ) g -(CF 2 ) h -(CH 2 ) i -(CF 2 ) j -Si(R) 3 (F)
其中c、d、e、f、g、h、I、j各自是一个从0至10的整数,c、d、e和f中的至少一个不为0,g、h、i和j中的至少一个不为0,并且R是一个可水解基团、或者是OH或NH 2

19.根据权利要求1或2所述的方法,其中该M1沉积物具有低于100nm的厚度。

20.根据权利要求1或2所述的方法,其中该M1沉积物具有低于30nm的厚度。

21.根据权利要求1或2所述的方法,其中该M1沉积物具有范围从1至10nm的厚度。

22.根据权利要求1或2所述的方法,其中该M1+M2沉积物具有低于20nm的厚度。

23.根据权利要求1或2所述的方法,包括将一个粘合剂预制膜施用在其上已经沉积了M3,或M3和M4的光学物品的表面上的步骤。

24.根据权利要求23所述的方法,其中该预制膜是一个压敏粘合剂膜。

25.根据权利要求24所述的方法,其中该预制膜包括纤维素三乙酸酯。

26.用于获得一种具有疏水和/或防油表面特性的修整的光学物品的方法,其特征在于该方法包括以下步骤:
1)制造一种光学物品,该光学物品适用于根据以上权利要求中任一项所述的方法的修整,
2)由一种盖形元件保持所述光学物品,
3)修整所述光学物品,
4)将该盖形元件从所述光学物品去除,
5)回收如此修整的光学物品,
以及
6)去除
-该预制膜,如果存在的话,
-M3层,以及
-M4层,如果存在的话。

27.一种光学物品,其可以通过如权利要求1至25中任一项所述的方法获得。

28.根据权利要求27所述的光学物品,其进一步的特征在于具有至少等于15mJ/m2的表面能。

29.一种光学物品,其可以通过如权利要求26所述的方法获得。

30.根据权利要求29所述的光学物品,其进一步的特征在于具有低于或等于14mJ/m2的表面能。

31.根据权利要求29所述的光学物品,其进一步的特征在于具有低于或等于12mJ/m2的表面能。