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1. (WO2009119837) METHOD OF CALCULATING COIL PATTERN, AND TILTED MAGNETIC FIELD COIL
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2009/119837    Internationale Anmeldenummer    PCT/JP2009/056374
Veröffentlichungsdatum: 01.10.2009 Internationales Anmeldedatum: 27.03.2009
IPC:
A61B 5/055 (2006.01), G01R 33/385 (2006.01)
Anmelder: HITACHI MEDICAL CORPORATION [JP/JP]; 4-14-1, Soto-kanda, Chiyoda-ku, Tokyo, 1010021 (JP) (For All Designated States Except US).
ABE, Mitsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKESHIMA, Hirotaka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Erfinder: ABE, Mitsushi; (JP).
TAKESHIMA, Hirotaka; (JP)
Prioritätsdaten:
2008-087862 28.03.2008 JP
Titel (EN) METHOD OF CALCULATING COIL PATTERN, AND TILTED MAGNETIC FIELD COIL
(FR) PROCÉDÉ DE CALCUL DE CONFIGURATION DE BOBINE, ET BOBINE DE CHAMP MAGNÉTIQUE INCLINÉ
(JA) コイルパターン計算方法及び傾斜磁場コイル
Zusammenfassung: front page image
(EN)Manufacturability is increased by removing constraints on designing of a coil pattern and accuracy of a magnetic field is improved. A method of calculating a coil pattern is characterized by performing a step wherein a current potential is calculated at each contact between finite surface elements which constitute each coil surface based on an initial value of an input current potential distribution, and the current potential is repeatedly calculated for coil surfaces one after another so that a surface current represented by the current potential is closer to a target magnetic field distribution set for each of the finite surface elements, and a current potential distribution which generates a magnetic field within a range of allowable errors of each target magnetic field is obtained under the conditions of each magnetic field, and a step of determining the coil pattern from the contour lines of the obtained current potential distribution.
(FR)La présente invention permet d’améliorer la capacité de fabrication par élimination des contraintes sur la conception d’une configuration de bobine et l’amélioration de la précision d’un champ magnétique. La présente invention concerne un procédé de calcul d’une configuration de bobine caractérisé par une étape dans laquelle un potentiel de courant est calculé à chaque contact entre des éléments de surface finis qui constituent chaque surface de la bobine sur la base d’une valeur initiale d’une répartition de potentiel de courant d’entrée, et le potentiel de courant est calculé de façon répétée pour les surfaces de la bobine les unes après les autres de telle sorte qu’un courant de surface représenté par le potentiel de courant soit plus proche d’une répartition de champ magnétique cible fixée pour chacun des éléments de surface finis, et une répartition de potentiel de courant qui génère un champ magnétique dans une gamme d’erreurs admissibles de chaque champ magnétique cible est obtenue dans les conditions de chaque champ magnétique, et par une étape de détermination de la configuration de bobine à partir des lignes de contour de la répartition de potentiel de courant obtenue.
(JA) コイルパターン設計の制限を無くし、製作性がよく、また磁場の精度を改善する。  コイルパターン計算方法は、入力された電流ポテンシャル分布の初期値に基づき、それぞれのコイル面を構成する有限面要素の各接点における電流ポテンシャルを計算し、電流ポテンシャルが表現する面電流が、有限面要素毎に設定される目標磁場分布に近付くように、コイル面毎に交互に繰り返し電流ポテンシャルの計算を行い、それぞれの磁場条件にそれぞれの目標磁場の許容誤差の範囲内となる磁場を発生する電流ポテンシャル分布を求めるステップと、この求めた電流ポテンシャル分布の等高線からコイルパターンを決定するステップと、を行うことを特徴とする。
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: Japanese (JA)
Anmeldesprache: Japanese (JA)