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1. (WO2019066428) OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
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رقم النشر: WO/2019/066428 رقم الطلب الدولي: PCT/KR2018/011304
تاريخ النشر: 04.04.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 21.09.2018
التصنيف الدولي للبراءات:
G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01)
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المودعون:
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
المخترعون:
유정선 YOU, Jung Sun; KR
고동호 KO, Dong Ho; KR
이효진 LEE, Hyo Jin; KR
문인주 MUN, In Ju; KR
김남규 KIM, Nam Gyu; KR
이현준 LEE, Hyun Jun; KR
الوكيل:
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
بيانات الأولوية:
10-2017-012782529.09.2017KR
العنوان (EN) OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF OPTIQUE
(KO) 광학 디바이스의 제조 방법
الملخص:
(EN) The present application relates to an optical device manufacturing method and an optical device. The present application provides a manufacturing method enabling the minimization or possibly the elimination of dotting stains which may occur when an optical device is manufactured by means of a dotting process. Such method, according to the present application, may provide an alignment film exhibiting enhanced alignment properties by improving dotting stains, especially in the presence of a big cell gap or even when high-temperature annealing is impossible as a result of a polymer substrate being applied as a substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de dispositif optique et un dispositif optique. La présente invention concerne un procédé de fabrication permettant la minimisation ou l'élimination de taches pointillage qui peuvent se produire lorsqu'un dispositif optique est fabriqué au moyen d'un processus de pointillage. Un tel procédé, selon la présente invention, peut fournir un film d'alignement présentant des propriétés d'alignement améliorées en améliorant les taches de pointillage, en particulier en présence d'un grand espace de cellules ou même lorsqu'un recuit à haute température est impossible suite à l'application d'un substrat polymère en tant que substrat.
(KO) 본 출원은 광학 디바이스의 제조 방법 및 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는, 닷팅 공정에 의해 광학 디바이스를 제작하는 경우에 발생할 수 있는 닷팅 얼룩을 최소화하거나, 혹은 없앨 수 있는 제조 방법이 제공된다. 이러한 본 출원의 방법은, 특히 큰 셀갭을 가지거나, 기판으로서 고분자 기판이 적용되어 고온 열처리가 불가능한 경우에도 상기 닷팅 얼룩을 개선하여 배향성이 향상된 배향막을 제공할 수 있다.
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الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
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لغة النشر: كوري (KO)
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