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1. (WO2019064511) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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رقم النشر: WO/2019/064511 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2017/035556
تاريخ النشر: 04.04.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 29.09.2017
التصنيف الدولي للبراءات:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
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المودعون:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
المخترعون:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
الوكيل:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
بيانات الأولوية:
العنوان (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
الملخص:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a light irradiation apparatus (80) that irradiates a photoelectric element (54) with light; and an electron beam optical system (70) that bombards a wafer W with a an electron beam produced from the photoelectric element due to the irradiation with light by the light irradiation apparatus (80), wherein the light irradiation apparatus (80) has an illumination system, an optical device that produces a plurality of light beams using the light from the illumination system, a first deflection part that deflects the light from the illumination system, a second deflection part that deflects a plurality of light beams from a pattern generator, and a projection system that irradiates the photoelectric element with at least one light beam from the second deflection part.
(FR) L'invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant : un appareil d'éclairement lumineux (80) qui éclaire un élément photoélectrique (54) avec de la lumière ; et un système optique à faisceau d'électrons (70) qui bombarde une galette W avec un faisceau d'électrons produit à partir de l'élément photoélectrique en raison de l'éclairement avec de la lumière par l'appareil d'éclairement lumineux (80). L'appareil d'éclairement lumineux (80) comprend un système d'éclairement, un dispositif optique qui produit une pluralité de faisceaux lumineux en utilisant la lumière provenant du système d'éclairement, une première partie de déviation qui dévie la lumière provenant du système d'éclairement, une deuxième partie de déviation qui dévie une pluralité de faisceaux lumineux provenant d'un générateur de motifs, et un système de projection qui éclaire l'élément photoélectrique avec au moins un faisceau lumineux provenant de la deuxième partie de déviation.
(JA) 電子ビーム装置は、光電素子(54)に光を照射する光照射装置(80)と、光照射装置(80)による光の照射によって光電素子から発生する電子ビームをウエハWに照射する電子ビーム光学系(70)と、を備え、光照射装置(80)は、照明系と、照明系からの光で複数の光ビームを発生させる光学デバイスと、照明系からの光を偏向する第1偏向部と、パターンジェネレータからの複数の光ビームを偏向する第2偏向部と、第2偏向部からの少なくとも1つの光ビームを光電素子に照射する投影系と、を有する。
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لغة الإيداع: ياباني (JA)