بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2019049795) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي    تقديم ملاحظات

رقم النشر: WO/2019/049795 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2018/032434
تاريخ النشر: 14.03.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 31.08.2018
التصنيف الدولي للبراءات:
C09D 201/02 (2006.01) ,C07D 317/46 (2006.01) ,C07D 317/54 (2006.01) ,C07D 317/64 (2006.01) ,C07D 405/14 (2006.01) ,C08L 101/06 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
المخترعون:
中津 大貴 NAKATSU Hiroki; JP
高梨 和憲 TAKANASHI Kazunori; JP
酒井 一憲 SAKAI Kazunori; JP
松村 裕史 MATSUMURA Yuushi; JP
中川 大樹 NAKAGAWA Hiroki; JP
الوكيل:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
بيانات الأولوية:
2017-17255907.09.2017JP
العنوان (EN) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
الملخص:
(EN) The purpose of the invention is to provide: a composition capable of forming a film exhibiting excellent flatness, wet peeling resistance, and pattern bending resistance while maintaining solvent resistance; a film; a method for forming a film; and a method for producing a patterned substrate. The present invention pertains to a composition containing a solvent and a compound having a group represented by formula (1), having a molecular weight of at least 200, and having a carbon atom content of at least 40 mass%. In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-20 monovalent hydrocarbon group or C1-20 monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a portion of an alicyclic structure which has 3-20 ring members and in which these groups are combined with each other together with carbon atoms bonded to these groups. Ar1 is a group obtained by removing (n+3) hydrogen atoms from an arene or heteroarene having 6-20 ring members. X is an oxygen atom, -CR3R4-, -CR3R4-O- or -O-CR3R4-.
(FR) L'objectif de l'invention est de fournir : une composition apte à former un film présentant une excellente planéité, une excellente résistance au pelage humide, et une résistance à la flexion de motif tout en maintenant la résistance aux solvants ; un film ; un procédé de formation d'un film ; et un procédé de production d'un substrat à motifs. À cet effet, la présente invention concerne une composition contenant un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1), ayant un poids moléculaire d'au moins 200, et ayant une teneur en atomes de carbone d'au moins 40 % en masse. Dans la formule (1), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent en C1-20 ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent en C1-20, ou une partie d'une structure alicyclique qui possède 3 à 20 éléments cycliques et dans laquelle ces groupes sont combinés les uns aux autres par des atomes de carbone liés à ces groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination de (n +3) atomes d'hydrogène d'un arène ou d'un hétéroarène ayant 6 à 20 chaînons de cycle. X est un atome d'oxygène, -CR3R4-, -CR3R4-O- ou -O-CR3R4-.
(JA) 溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造の一部である。Arは、環員数6~20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、-CR-、-CR-O-又は-O-CR-である。
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)