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1. (WO2019048145) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
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رقم النشر: WO/2019/048145 رقم الطلب الدولي: PCT/EP2018/071069
تاريخ النشر: 14.03.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 02.08.2018
التصنيف الدولي للبراءات:
G03F 7/20 (2006.01)
Description not available in lang ar
المودعون:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
المخترعون:
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
الوكيل:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
بيانات الأولوية:
17190401.411.09.2017EP
17193415.127.09.2017EP
العنوان (EN) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) MÉTROLOGIE DANS DES PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES
الملخص:
(EN) An apparatus and method for estimating a parameter of a lithographic process and an apparatus and method for determining a relationship between a measure of quality of an estimate of a parameter of a lithographic process are provided. In the apparatus for estimating the parameter a processor is configured to determine a quality of the estimate of the parameter relating to the tested substrate based on a measure of feature asymmetry in the at least first features of the tested substrate and further based on a relationship determined for a plurality of corresponding at least first features of at least one further substrate representative of the tested substrate, the relationship being between a measure of quality of an estimate of the parameter relating to the at least one further substrate and a measure of feature asymmetry in the corresponding first features.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé pour estimer un paramètre d'un processus lithographique ainsi qu'un appareil et un procédé pour déterminer une relation entre une mesure de qualité d'une estimation d'un paramètre d'un processus lithographique. Dans l'appareil pour estimer le paramètre, un processeur est conçu pour déterminer une qualité de l'estimation du paramètre relatif au substrat testé sur la base d'une mesure d'asymétrie de caractéristique dans au moins les premières caractéristiques du substrat testé et, en outre, sur la base d'une relation déterminée pour au moins une pluralité de premières caractéristiques correspondantes d'au moins un autre substrat représentatif du substrat testé, la relation étant entre une mesure de qualité d'une estimation du paramètre relatif à l'autre ou aux autres substrats et une mesure d'asymétrie de caractéristique dans les premières caractéristiques correspondantes.
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الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: الإنكليزية (EN)
لغة الإيداع: الإنكليزية (EN)