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1. (WO2019044668) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD
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رقم النشر: WO/2019/044668 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2018/031231
تاريخ النشر: 07.03.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 23.08.2018
التصنيف الدولي للبراءات:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 220/12 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
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المودعون:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
المخترعون:
高桑 英希 TAKAKUWA Hideki; JP
吉野 文博 YOSHINO Fumihiro; JP
الوكيل:
特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
بيانات الأولوية:
2017-16785131.08.2017JP
العنوان (EN) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU À UN RAYONNEMENT, FILM DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
الملخص:
(EN) Provided is an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin containing a repeating unit expressed by a specific general formula, a repeating unit expressed by a specific general formula, and a repeating unit expressed by a specific general formula, the content amount of the repeating unit expressed by general formula (1) being a range of 25-50 mol% with respect to all of the repeating units in the resin (A); (B) a compound that produces an acid through irradiation with an active light ray or radiation; and (C) a solvent. Also provided are: an active light-sensitive or radiation-sensitive resin film that uses the active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern-forming method; and a method for producing an electronic device.
(FR) L'invention fournit une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement qui comprend : (A) une résine qui comprend à son tour une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique, une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique et une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique, la teneur en unité de répétition représentée par la formule générale (1) étant comprise dans une plage de 25 à 50% en moles pour l'ensemble des unités de répétition contenues dans la résine (A) ; (B) un composé générant un acide par irradiation au moyen de rayons actiniques ou d'un rayonnement ; et (C) un solvant. L'invention fournit en outre un film de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement, un procédé de formation de motif et un procédé de fabrication de dispositif électronique qui mettent en œuvre cette composition de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement.
(JA) (A)特定の一般式で表される繰り返し単位、特定の一般式で表される繰り返し単位、及び特定の一般式で表される繰り返し単位を含有し、上記一般式(1)で表される繰り返し単位の含有量が、樹脂(A)中の全繰り返し単位に対して25~50モル%の範囲である樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)