بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2019028324) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي    تقديم ملاحظات

رقم النشر: WO/2019/028324 رقم الطلب الدولي: PCT/US2018/045122
تاريخ النشر: 07.02.2019 تاريخ الإيداع الدولي: 03.08.2018
التصنيف الدولي للبراءات:
B24B 37/013 (2012.01) ,B24B 37/20 (2012.01) ,B24B 37/24 (2012.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
المخترعون:
FU, Boyi; US
GANAPATHIAPPAN, Sivapackia; US
REDFIELD, Daniel; US
BAJAJ, Rajeev; US
CHOCKALINGAM, Ashwin; US
BENVEGNU, Dominic J.; US
CORNEJO, Mario Dagio; US
YAMAMURA, Mayu; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
VORA, Ankit; US
الوكيل:
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
بيانات الأولوية:
62/541,49704.08.2017US
62/562,23722.09.2017US
العنوان (EN) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
(FR) TAMPON À POLIR DOTÉ D’UNE FENÊTRE ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
الملخص:
(EN) Embodiments of the present disclosure provide for polishing pads that include at least one endpoint detection (EPD) window disposed through the polishing pad material, and methods of forming thereof. In one embodiment a method of forming a polishing pad includes forming a first layer of the polishing pad by dispensing a first precursor composition and a window precursor composition, the first layer comprising at least portions of each of a first polishing pad element and a window feature, and partially curing the dispensed first precursor composition and the dispensed window precursor composition disposed within the first layer.
(FR) La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des tampons à polir qui comprennent au moins une fenêtre de détection de point d'extrémité (EPD) disposée dans le matériau de tampon à polir, et leurs procédés de formation. Selon un mode de réalisation, un procédé de formation d'un tampon à polir consiste à former une première couche du tampon à polir par distribution d'une première composition de précurseur et d'une composition de précurseur de fenêtre, la première couche comprenant au moins des parties d'un premier organe de tampon à polir et d'un élément fenêtre, et à durcir partiellement la première composition de précurseur distribuée et la composition de précurseur de fenêtre distribuée disposées dans la première couche.
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: الإنكليزية (EN)
لغة الإيداع: الإنكليزية (EN)