بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2018128078) ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدوليتقديم ملاحظات

رقم النشر: WO/2018/128078 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2017/045708
تاريخ النشر: 12.07.2018 تاريخ الإيداع الدولي: 20.12.2017
التصنيف الدولي للبراءات:
H01L 21/3065 (2006.01) ,H01L 21/3205 (2006.01) ,H01L 21/3213 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01) ,H01L 23/532 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP
المخترعون:
山内 邦裕 YAMAUCHI, Kunihiro; JP
増田 隆司 MASUDA, Takashi; JP
八尾 章史 YAO, Akifumi; JP
الوكيل:
小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi; JP
富岡 潔 TOMIOKA, Kiyoshi; JP
山口 幸二 YAMAGUCHI, Koji; JP
بيانات الأولوية:
2017-00014104.01.2017JP
العنوان (EN) ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE ET DISPOSITIF DE GRAVURE
(JA) ドライエッチング方法及びエッチング装置
الملخص:
(EN) A dry etching method for etching a metal film on a substrate using an etching gas, said method characterized in that: the etching gas contains a β-diketone, a first additive gas and a second additive gas; the metal film includes a metal element capable of forming a complex with the β-diketone; the first additive gas is at least one type of gas selected from the group consisting of NO, N2O, O2, and O3; the second additive gas is at least one type of gas selected from the group consisting of H2O and H22; the amount of the β-diketone contained in the etching gas is 10 vol% to 90 vol% with respect to the etching gas; and the amount of the second additive gas contained in the etching gas is 0.1 vol% to 15 vol% with respect to the etching gas. This method makes it possible to improve the etching speed with respect to a metal film.
(FR) L’invention concerne un procédé de gravure sèche permettant de graver un film métallique sur un substrat à l'aide d'un gaz de gravure, ledit procédé étant caractérisé en ce que : le gaz de gravure contient une β-dicétone, un premier gaz additif et un second gaz additif ; le film métallique comprend un élément métallique capable de former un complexe avec la β-dicétone ; le premier gaz additif est au moins un type de gaz choisi dans le groupe constitué par NO, N2O, O2 et O3 ; le second gaz additif est au moins un type de gaz choisi dans le groupe constitué par H2O et H22 ; la quantité de β-dicétone dans le gaz de gravure, rapportée au gaz de gravure, est comprise entre 10 % en volume et 90 % en volume ; et la quantité du second gaz additif dans le gaz de gravure, rapportée au gaz de gravure, est comprise entre 0,1 % en volume et 15 % en volume. Ce procédé permet d'améliorer la vitesse de gravure par rapport à un film métallique.
(JA) 基板上の金属膜を、エッチングガスを用いてエッチングするドライエッチング方法であって、前記エッチングガスが、β-ジケトンと第一添加ガスと第二添加ガスを含み、前記金属膜が、前記β-ジケトンと錯体を形成可能な金属元素を含み、前記第一添加ガスが、NO、N2O、O2及びO3からなる群から選ばれる少なくとも1種のガスであり、前記第二添加ガスが、H2O及びH22からなる群から選ばれる少なくとも1種のガスであり、前記エッチングガスに含まれる前記β-ジケトンの量が、前記エッチングガスに対して10体積%以上90体積%以下であり、前記エッチングガスに含まれる前記第二添加ガスの量が、前記エッチングガスに対して0.1体積%以上15体積%以下であることを特徴とする。この方法により、金属膜のエッチング速度を向上させることができる。
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (الأريبو) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
المكتب الأوروبي الآسيوي للبراءات (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)