بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2018123626) NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PROTRUDING ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING ELECTRODE
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي    تقديم ملاحظات

رقم النشر: WO/2018/123626 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2017/044987
تاريخ النشر: 05.07.2018 تاريخ الإيداع الدولي: 14.12.2017
التصنيف الدولي للبراءات:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/60 (2006.01) ,H05K 3/34 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008246, JP
المخترعون:
佐藤 信寛 SATO Nobuhiro; JP
阿部 信紀 ABE Nobunori; JP
الوكيل:
杉村 憲司 SUGIMURA Kenji; JP
بيانات الأولوية:
2016-25197526.12.2016JP
العنوان (EN) NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PROTRUDING ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING ELECTRODE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE NÉGATIVE POUR ÉLECTRODE EN SAILLIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE ÉLECTRODE EN SAILLIE
(JA) 突起電極用ネガ型レジスト組成物及び突起電極の製造方法
الملخص:
(EN) The present invention provides a negative resist composition for a protruding electrode with a resist film having a light transmittance of 30% or less at a wavelength of 365 nm on producing a resist film with a thickness of 3.5 µm.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine négative pour une électrode en saillie présentant un film de résine ayant une transmittance égale ou inférieure à 30 % à une longueur d'onde de 365 nm lors de la production d'un film de résine d’une épaisseur de 3,5 µm.
(JA) 厚さ3.5μmのレジスト膜を形成した場合に、波長365nmでの前記レジスト膜の光線透過率が30%以下である、突起電極用ネガ型レジスト組成物である。
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)