بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2018063346) METHODS AND APPARATUS TO REMOVE EPITAXIAL DEFECTS IN SEMICONDUCTORS
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي    تقديم ملاحظات

رقم النشر: WO/2018/063346 رقم الطلب الدولي: PCT/US2016/054846
تاريخ النشر: 05.04.2018 تاريخ الإيداع الدولي: 30.09.2016
التصنيف الدولي للبراءات:
H01L 21/78 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01) ,H01L 21/762 (2006.01) ,H01L 21/302 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
المخترعون:
LILAK, Aaron D.; US
MEHANDRU, Rishabh; US
MORROW, Patrick; US
KEYS, Patrick H.; US
الوكيل:
ALI, Syed Nazeer; US
بيانات الأولوية:
العنوان (EN) METHODS AND APPARATUS TO REMOVE EPITAXIAL DEFECTS IN SEMICONDUCTORS
(FR) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS POUR ÉLIMINER DES DÉFAUTS ÉPITAXIAUX DANS DES SEMI-CONDUCTEURS
الملخص:
(EN) Methods and apparatus to remove epitaxial defects in semiconductors are disclosed. A disclosed example multilayered die structure includes a fin having a first material, where the fin is epitaxially grown from a first substrate layer having a second material, and where a defect portion of the fin is etched or polished. The disclosed example multilayered die structure also includes a second substrate layer having an opening through which the fin extends.
(FR) L'invention concerne des procédés et dispositifs pour éliminer des défauts épitaxiaux dans des semi-conducteurs. Une structure de matrice multicouche décrite à titre d'exemple comprend une ailette ayant un premier matériau, l'ailette étant formée par croissance épitaxiale à partir d'une première couche de substrat ayant un second matériau, et une portion de défaut de l'ailette étant gravée ou polie. La structure de matrice multicouche décrite à titre d'exemple comprend également une seconde couche de substrat ayant une ouverture à travers laquelle s'étend l'ailette.
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: الإنكليزية (EN)
لغة الإيداع: الإنكليزية (EN)