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1. WO2017092995 - OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM

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Patentansprüche

Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungs-anlage oder einer Waferinspektionsanlage, wobei das optische System eine optische Systemachse (OA) aufweist, mit

• einem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810);

• einem zweiten Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820); und

• einem Manipulator zur Verschiebung des zweiten Retardierungsmani- pulators (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) unabhängig von dem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) in wenigstens einer zur optischen Systemachse (OA) transversalen Richtung;

• wobei der zweite Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) die Wellenfront von im Betrieb des optischen Systems hindurchtretendem Licht unverändert lässt; und

• wobei in einer vorgegebenen Ausgangsposition des ersten Retardie- rungsmanipulators (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) und des zweiten Retardierungsmanipulators (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) die Summe der von dem ersten Retardierungsmanipulator und dem zweiten Retardierungsmanipulator bewirkten Retardierungen für sämtliche im Betrieb des optischen Systems parallel zur optischen Systemachse (OA) verlaufenden Strahlen übereinstimmt.

Optisches System nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass eine in dem optischen System anderenorts vorhandene Retardierung durch die Anordnung aus dem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) und dem zweiten Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) wenigstens teilweise kompensiert wird.

Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Summe der von dem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) und dem zweiten Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) bewirkten Retardierungen Null ist oder ein ganzzahliges Vielfaches der Arbeitswellenlänge beträgt.

4. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Manipulator zur Verschiebung des zweiten Retardierungsmanipulators (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) in zwei zueinander senkrechten, zur optischen Systemachse (OA) jeweils transversalen Richtungen ausgelegt ist.

5. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610) ein erstes Teilelement (1 1 1 , 21 1 , 31 1 , 41 1 , 51 1 , 61 1 ) und ein zweites Teilelement (1 12, 212, 312, 412, 512, 612) aufweist.

6. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) ein drittes Teilelement (121 , 221 , 321 , 421 , 521 , 621 ) und ein viertes Teilelement (122, 222, 322, 422, 522, 622) aufweist.

7. Optisches System nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass jeweils eines der Teilelemente des betreffenden Retardierungsmanipulators derart ausgebildet ist, dass es für hindurchtretendes Licht eine Retardierung bewirkt, und das jeweils andere Teilelement des betreffenden Retardie- rungsmanipulators derart ausgebildet ist, dass es für hindurchtretendes

Licht keine Retardierung bewirkt.

8. Optisches System nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Teilelemente des betreffenden Retardierungsmanipula- tors sich in ihrer Wellenfrontwirkung gegenseitig kompensieren.

9. Optisches System nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Teilelemente in wenigstens einem Retardierungs-

manipulator jeweils einander zugewandte asphärische Oberflächen aufweisen, welche entlang der optischen Systemachse (OA) einen konstanten Abstand voneinander aufweisen.

10. Optisches System nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass jeweils eines der Teilelemente in dem betreffenden Retardierungsmanipulator aus optisch einachsigem Kristallmaterial mit zur optischen Systemachse (OA) senkrechter Orientierung der optischen Kristallachse hergestellt ist.

1 1 . Optisches System nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das betreffende Teilelement im ersten Retardierungsmanipulator und das betreffende Teilelement im zweiten Retardierungsmanipulator zueinander senkrechte Orientierungen der optischen Kristallachse aufweisen.

12. Optisches System nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass jeweils eines der Teilelemente des ersten Retardierungsma- nipulators (1 10, 210, 310, 410, 510, 610) und des zweiten Retardierungs- manipulators (120, 220, 320, 420, 520, 620) aus optisch einachsigem Kristallmaterial mit zur optischen Systemachse (OA) paralleler Orientierung der optischen Kristallachse hergestellt ist.

13. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens einer der Retardierungsmanipulatoren (510, 610, 710, 720, 810, 820) eine nicht-plane Lichteintrittsfläche aufweist.

14. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens einer der Retardierungsmanipulatoren (720, 810, 820) zur Erzeugung der Retardierung eine Beschichtung (721 , 812, 821 ) aufweist.

15. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem Projektionsobjektiv, wobei die Beleuchtungseinrich- tung (901 ) und/oder das Projektionsobjektiv (902) als optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14 ausgebildet sind.

16. Waferinspektionsanlage, dadurch gekennzeichnet, dass die Waferinspekti- onsanlage ein optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14 aufweist.

17. Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente mit folgenden Schritten:

• Bereitstellen eines Substrats (91 1 ), auf das zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist;

• Bereitstellen einer Maske (903), die abzubildende Strukturen aufweist;

• Bereitstellen einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 15; und

• Projizieren wenigstens eines Teils der Maske (903) auf einen Bereich der Schicht mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage.