لن يكون PATENTSCOPE متاحًا لعدة ساعات لأسباب الصيانة على الثلاثاء 19.11.2019 16:00 CET
البحث في مجموعات البراءات الوطنية والدولية
بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2017092995) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM
إشعارات عن التغيرات بعد النشر
تاريخ النشرنوع النشرسبب النشر
08.06.2017A1النشر الأولي مع تقرير البحث الدولي
05.07.2018A8تصحيح باب في القسم الأول من جريدة معاهدة التعاون بشأن البراءات
Under (71), applicant corrected to CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (for all designated states).