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1. (WO2017092995) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي

رقم النشر: WO/2017/092995 رقم الطلب الدولي: PCT/EP2016/077210
تاريخ النشر: 08.06.2017 تاريخ الإيداع الدولي: 10.11.2016
التصنيف الدولي للبراءات:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
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المودعون:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
CARL, Michael [DE/DE]; DE (US)
المخترعون:
CARL, Michael; DE
الوكيل:
FRANK, Hartmut; DE
بيانات الأولوية:
10 2015 223 982.902.12.2015DE
العنوان (DE) OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE ODER EINER WAFERINSPEKTIONSANLAGE
(EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM OR OF A WAFER INSPECTION SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'UNE UNITÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE OU D'UNE UNITÉ D'INSPECTION DE PLAQUETTES
الملخص:
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Waferinspektionsanlage, wobei das optische System eine optische Systemachse (OA) aufweist, mit einem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), einem zweiten Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), und einem Manipulator zur Verschiebung des zweiten Retardierungsmanipulators (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) unabhängig von dem ersten Retardierungsmanipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) in wenigstens einer zur optischen Systemachse (OA) transversalen Richtung, wobei der zweite Retardierungsmanipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) die Wellenfront von im Betrieb des optischen Systems hindurchtretendem Licht unverändert lässt, und wobei in einer vorgegebenen Ausgangsposition des ersten Retardierungsmanipulators und des zweiten Retardierungsmanipulators die Summe der von dem ersten Retardierungsmanipulator und dem zweiten Retardierungsmanipulator bewirkten Retardierungen für sämtliche im Betrieb des optischen Systems parallel zur optischen Systemachse (OA) verlaufenden Strahlen übereinstimmt.
(EN) The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure system or of a wafer inspection system. The optical system has an optical system axis (OA) and comprises a first retardation manipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), a second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), and a manipulator for displacing the second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) independently of the first retardation manipulator (1 10, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) in at least one direction which is transversal to the optical system axis (OA) The second retardation manipulator (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) leaves the wave front of the light passing through during the operation of the optical system unchanged, and in a specified starting position of the first retardation manipulator and the second retardation manipulator, the sum of the retardation produced by the first retardation manipulator and by the second retardation manipulator is the same for all of the beams running parallel to the optical system axis (OA) during the operation of the optical system.
(FR) L'invention concerne un système optique d'une unité d'exposition par projection microlithographique ou d'une unité d'inspection de plaquettes. Le système optique possède un axe optique (OA) et comporte un premier retardateur (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810), un second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820), et un manipulateur destiné déplacer le second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) indépendamment du premier retardateur (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810) dans au moins une direction transversale à l'axe optique OA du système. Le second retardateur (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820) laisse inchangée le front d'onde de la lumière traversante pendant le fonctionnement du système optique. De plus, dans une position de sortie prédéterminée du premier retardateur et du second retardateur, la somme des retards générés par le premier retardateur et le second retardateur concorde pour tous les faisceaux s'étendant parallèlement à l'axe optique (OA) du système pendant le fonctionnement du système optique.
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