لن يكون ركن البراءات الإلكتروني متاحا لبضع ساعات لأسباب تتعلق بالصيانة يوم الاثنين 03.02.2020 عند الساعة 10:00 ص CET
البحث في مجموعات البراءات الدولية والوطنية
بعض محتويات هذا الطلب غير متوفر حاليا.
إذا استمر الوضع، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وبيانات الاتصال
1. (WO2017090505) SUBSTRATE LIQUID TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE LIQUID TREATMENT METHOD, AND MEMORY MEDIUM
أحدث البيانات الببليوغرافية المسجلة لدى المكتب الدولي

رقم النشر: WO/2017/090505 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2016/084104
تاريخ النشر: 01.06.2017 تاريخ الإيداع الدولي: 17.11.2016
التصنيف الدولي للبراءات:
H01L 21/306 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
المخترعون:
小佐井 一樹 KOSAI Kazuki; JP
甲斐 義広 KAI Yoshihiro; JP
五師 源太郎 GOSHI Gentaro; JP
小宮 洋司 KOMIYA Hiroshi; JP
藤本 誠也 FUJIMOTO Seiya; JP
大塚 貴久 OTSUKA Takahisa; JP
الوكيل:
永井 浩之 NAGAI Hiroshi; JP
中村 行孝 NAKAMURA Yukitaka; JP
佐藤 泰和 SATO Yasukazu; JP
朝倉 悟 ASAKURA Satoru; JP
森 秀行 MORI Hideyuki; JP
بيانات الأولوية:
2015-22883324.11.2015JP
الاسم (EN) SUBSTRATE LIQUID TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE LIQUID TREATMENT METHOD, AND MEMORY MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT ET SUPPORT MÉMOIRE
(JA) 基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体
الملخص:
(EN) A substrate treatment device, provided with a substrate holding part (31) for holding a substrate (W); an outer nozzle (45) for discharging a treatment liquid toward the surface of the substrate from a position further on the outside than the outer peripheral edge of the substrate held by the substrate holding part, so that at least the center part of the surface of the substrate is covered by a liquid coat of the discharged treatment liquid; and an actuator (46, 90) capable of changing the height position or the elevation angle of the outer nozzle.
(FR) L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat comportant une partie de maintien de substrat (31) destinée à maintenir un substrat (W) ; une buse externe (45) permettant d'expulser un liquide de traitement vers la surface du substrat depuis une position située plus à l'extérieur que le bord périphérique externe du substrat maintenu par la partie de maintien de substrat, de manière à ce qu'au moins la partie centrale de la surface du substrat soit recouverte d'une couche liquide du liquide de traitement expulsé ; et un actionneur (46, 90) permettant de modifier la position en hauteur ou l'angle d'élévation de la buse extérieure.
(JA) 基板処理装置は、基板(W)を保持する基板保持部(31)と、基板保持部により保持された基板の外周縁よりも外側の位置から、基板の表面の少なくとも中心部が吐出された処理液の液膜により覆われるように、基板の表面に向けて処理液を吐出する外ノズル(45)と、外ノズルの高さ位置または俯仰角を変更することができるアクチュエータ(46,90)とを備える。
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (الأريبو) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
المكتب الأوروبي الآسيوي للبراءات (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: اليابانية (JA)
لغة الإيداع: اليابانية (JA)
Also published as:
CN108292599KR1020180084797US20180337067