بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2017013881) RUTILE-TYPE NIOBIUM OXYNITRIDE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND SEMICONDUCTOR STRUCTURE
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي   

رقم النشر: WO/2017/013881 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2016/003412
تاريخ النشر: 26.01.2017 تاريخ الإيداع الدولي: 21.07.2016
التصنيف الدولي للبراءات:
C01G 33/00 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,C23C 14/28 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
パナソニック株式会社 PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 大阪府門真市大字門真1006番地 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501, JP
المخترعون:
菊地 諒介 KIKUCHI, Ryosuke; --
羽藤 一仁 HATO, Kazuhito; --
長谷川 哲也 HASEGAWA, Tetsuya; --
廣瀬 靖 HIROSE, Yasushi; --
الوكيل:
鎌田 耕一 KAMADA, Koichi; JP
間中 恵子 KENCHU, Keiko; JP
بيانات الأولوية:
2015-14570323.07.2015JP
العنوان (EN) RUTILE-TYPE NIOBIUM OXYNITRIDE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND SEMICONDUCTOR STRUCTURE
(FR) OXYNITRURE DE NIOBIUM TYPE RUTILE AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ET STRUCTURE DE SEMI-CONDUCTEUR
(JA) ルチル型ニオブ酸窒化物及びその製造方法、並びに半導体構造体
الملخص:
(EN) The present disclosure provides a rutile-type niobium oxynitride having a rutile-type crystal structure and represented by the chemical formula NbON. The present disclosure also provides a semiconductor structure (100) comprising: a substrate (110) in which at least one principal surface is formed of a rutile-type compound having a rutile-type crystal structure; and a niobium oxynitride (for example, a rutile-type niobium oxynitride film (120)) grown on said one principal surface of the substrate (110), the niobium oxynitride having a rutile-type crystal structure and represented by the chemical formula NbON.
(FR) L’invention fournit un oxynitrure de niobium type rutile qui possède une structure cristalline de type rutile, et qui est représenté par la formule chimique NbON. En outre, l’invention fournit une structure de semi-conducteur (100) qui contient : un substrat (110) tel qu’au moins une face principale est formée par un composé type rutile possédant une structure cristalline de type rutile ; et un oxynitrure de niobium (par exemple, un film d’oxynitrure de niobium type rutile (120)) qui possède une structure cristalline de type rutile, qui est représenté par la formule chimique NbON, et dont la croissance s’est faite sur ladite face principale du substrat (110).
(JA) 本開示は、ルチル型の結晶構造を有する、化学式NbONにより表されるルチル型ニオブ酸窒化物を提供する。また、本開示は、少なくとも一方の主面が、ルチル型の結晶構造を有するルチル型化合物で形成されている基板(110)と、基板(110)の前記一方の主面上に成長した、ルチル型の結晶構造を有する化学式NbONにより表されるニオブ酸窒化物(例えばルチル型ニオブ酸窒化物膜(120))と、を含む半導体構造体(100)も提供する。
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)