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1. (WO2017007004) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
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رقم النشر: WO/2017/007004 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2016/070179
تاريخ النشر: 12.01.2017 تاريخ الإيداع الدولي: 07.07.2016
التصنيف الدولي للبراءات:
G09F 9/30 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
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المودعون:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
المخترعون:
岡部 達 OKABE Tohru; --
錦 博彦 NISHIKI Hirohiko; --
原 猛 HARA Takeshi; --
小坂 知裕 KOSAKA Tomohiro; --
石田 和泉 ISHIDA Izumi; --
村重 正悟 MURASHIGE Shogo; --
الوكيل:
川上 桂子 KAWAKAMI Keiko; JP
بيانات الأولوية:
2015-13764009.07.2015JP
2015-14344817.07.2015JP
العنوان (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT À MATRICE ACTIVE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) アクティブマトリクス基板、表示装置、及び表示装置の製造方法
الملخص:
(EN) The present invention reduces the number of production steps of an active matrix substrate. This active matrix substrate comprising an insulating substrate 100 which is provided with a light-transmitting region that transmits light and a light-blocking region that blocks light is provided with: a colored light-blocking film 201 that is formed in the light-blocking region of the insulating substrate 100 and contains carbon particles in a transparent matrix; an inorganic film 202 that is formed on the light-blocking film 201; a light-transmitting film 204 that is formed in the light-transmitting region of the insulating substrate 100 and contains transparent carbon oxide particles in a transparent matrix; a gate line 111 that is arranged on the inorganic film 202; a gate insulating film 101 that is arranged on the gate line 111; thin film transistors 300 that are arranged in a matrix on the gate insulating film 101; and a data line that is arranged on the light-blocking film 201 so as to intersect with the gate line 111 and is electrically connected to the thin film transistors 300.
(FR) La présente invention réduit le nombre d'étapes de production d'un substrat à matrice active. Ce substrat à matrice active, comprenant un substrat isolant (100) qui est pourvu d'une région transmettant la lumière qui transmet la lumière et d'une région de blocage de la lumière qui bloque la lumière, est muni : d'un film coloré (201) bloquant la lumière qui est formé dans la région bloquant la lumière du substrat isolant (100) et qui contient des particules de carbone dans une matrice transparente ; d'un film inorganique (202) qui est formé sur le film (201) bloquant la lumière ; d'un film (204) transmettant la lumière qui est formé dans la région transmettant la lumière du substrat isolant (100) et qui contient des particules d'oxyde de carbone transparentes dans une matrice transparente ; d'une ligne de grille (111) qui est disposée sur le film inorganique (202) ; d'un film (101) d'isolation de grille qui est disposé sur la ligne de grille (111) ; de transistors à couche mince (300) qui sont agencés dans une matrice sur le film (101) d'isolation de grille ; et d'une ligne de données qui est disposée sur le film (201) bloquant la lumière (201) de façon à croiser la ligne de grille (111) et qui est électriquement raccordée aux transistors à couche mince (300).
(JA)  アクティブマトリクス基板の製造工程数を低減する。光を透過する光透過領域と、光を遮光する遮光領域とが形成された絶縁基板100を有するアクティブマトリクス基板は、絶縁基板100上の遮光領域に形成され、透明な母材にカーボン粒子を含有する、着色した遮光膜201と、遮光膜201の上に形成された無機膜202と、絶縁基板100の光透過領域に形成され、透明な母材に透明の酸化カーボン粒子を含有する光透過膜204と、無機膜202の上に設けられたゲート線111と、ゲート線111の上に設けられたゲート絶縁膜101と、ゲート絶縁膜101の上にマトリクス状に設けられた薄膜トランジスタ300と、遮光膜201の上にゲート線111と交差するように設けられ、薄膜トランジスタ300と電気的に接続されるデータ線と、を備える。
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