البحث في مجموعات البراءات الدولية والوطنية
بعض محتويات هذا الطلب غير متوفر حاليا.
إذا استمر الوضع، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وبيانات الاتصال
1. (WO2012005300) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
أحدث البيانات الببليوغرافية المسجلة لدى المكتب الدولي

رقم النشر: WO/2012/005300 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2011/065493
تاريخ النشر: 12.01.2012 تاريخ الإيداع الدولي: 06.07.2011
التصنيف الدولي للبراءات:
C23C 14/08 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/58 (2006.01) ,H01B 13/00 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2,Shimohozumi,Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP (AllExceptUS)
山▲崎▼ 由佳 YAMAZAKI, Yuka [JP/JP]; JP (UsOnly)
梨木 智剛 NASHIKI, Tomotake [JP/JP]; JP (UsOnly)
菅原 英男 SUGAWARA, Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
待永 広宣 MACHINAGA, Hironobu [JP/JP]; JP (UsOnly)
佐々木 恵梨 SASAKI, Eri [JP/JP]; JP (UsOnly)
المخترعون:
山▲崎▼ 由佳 YAMAZAKI, Yuka; JP
梨木 智剛 NASHIKI, Tomotake; JP
菅原 英男 SUGAWARA, Hideo; JP
待永 広宣 MACHINAGA, Hironobu; JP
佐々木 恵梨 SASAKI, Eri; JP
الوكيل:
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市淀川区西中島5丁目13-9 新大阪MTビル1号館 SHIN-OSAKA MT Bldg. 1 13-9, Nishinakajima 5-chome Yodogawa-ku, Osaka-shi Osaka 5320011, JP
بيانات الأولوية:
2010-15421906.07.2010JP
2011-05045708.03.2011JP
الاسم (EN) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 透明導電性フィルムおよびその製造方法
الملخص:
(EN) Disclosed is a method for manufacturing a long transparent conductive film comprising a crystalline iridium composite oxide film formed on a transparent film substrate. Said method includes: an amorphous laminate formation step in which an amorphous iridium complex oxide film that contains iridium and a tetravalent metal is formed on a long transparent film substrate by a sputtering method; and a crystallization step in which the long transparent film substrate on which the aforementioned amorphous film is formed is continuously fed into a furnace and the amorphous film is crystallized. The temperature of the furnace in the crystallization step is preferably 170-220°C, and the length of the film preferably changes by at most +2.5% in the crystallization step.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un long film conducteur transparent comprenant un film d'oxyde composite d'iridium cristallin formé sur un substrat de film transparent. Ledit procédé comprend une étape de formation d'un stratifié amorphe dans laquelle un film d'oxyde complexe d'iridium amorphe qui contient de l'iridium et un métal tétravalent est formé sur un long substrat de film transparent par un procédé de pulvérisation cathodique ; et une étape de cristallisation dans laquelle le long substrat de film transparent sur lequel est formé le film amorphe susmentionné est introduit en continu dans un four et le film amorphe est cristallisé. Lors de l'étape de cristallisation, la température du four est de préférence de 170-220 °C et la longueur du film varie de préférence au maximum de +2,5 %.
(JA) 本発明は、透明フィルム基材上に結晶質のインジウム系複合酸化物膜が形成された長尺状の透明導電性フィルムを製造することを目的とする。本発明の製造方法は、インジウムと4価金属とを含有するインジウム系複合酸化物の非晶質膜が、スパッタ法により前記長尺状透明フィルム基材上に形成される非晶質積層体形成工程、および前記非晶質膜が形成された長尺状透明フィルム基材が、加熱炉内に連続的に搬送され、前記非晶質膜が結晶化される結晶化工程、を有する。前記結晶化工程における加熱炉内の温度は170℃~220℃であることが好ましい。また、前記結晶化工程におけるフィルム長さの変化率は+2.5%以下であることが好ましい。
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (الأريبو) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
المكتب الأوروبي الآسيوي للبراءات (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: اليابانية (JA)
لغة الإيداع: اليابانية (JA)
Also published as:
US20130149555CN102985585KR1020130025969KR1020150059798