بعض محتويات هذا التطبيق غير متوفرة في الوقت الحالي.
إذا استمرت هذه الحالة ، يرجى الاتصال بنا علىتعليق وإتصال
1. (WO2007116715) HIGH-CONTACT STRUCTURE FOR SOLID-PARTICLE, HIGH-CONTACT STRUCTURE BASE FOR SOLID PARTICLE, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي   

رقم النشر: WO/2007/116715 رقم الطلب الدولي: PCT/JP2007/056319
تاريخ النشر: 18.10.2007 تاريخ الإيداع الدولي: 27.03.2007
الفصل الثاني من الطلب المودع: 30.01.2008
التصنيف الدولي للبراءات:
B01J 35/10 (2006.01) ,B01D 53/94 (2006.01) ,B01J 23/66 (2006.01) ,B01J 35/02 (2006.01) ,B01J 37/02 (2006.01) ,B01J 37/03 (2006.01) ,B01J 37/08 (2006.01) ,B01J 37/16 (2006.01) ,F01N 3/02 (2006.01)
Description not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang arDescription not available in lang ar
المودعون:
香山 智之 KAYAMA, Tomoyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
坂野 幸次 BANNO, Kouzi [JP/JP]; JP (UsOnly)
株式会社豊田中央研究所 KABUSHIKI KAISHA TOYOTA CHUO KENKYUSHO [JP/JP]; 〒4801192 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41-1 Aichi 41-1, Aza Yokomichi, Oaza Nagakute, Nagakute-cho, Aichi-gun Aichi 4801192, JP (AllExceptUS)
المخترعون:
香山 智之 KAYAMA, Tomoyuki; JP
坂野 幸次 BANNO, Kouzi; JP
الوكيل:
長濱 範明 NAGAHAMA, Noriaki; 〒1040028 東京都中央区八重洲2-10-10 ムラキビル8階 長濱国際特許事務所 Tokyo Nagahama International Patent Firm Muraki Bldg. 8th Floor 2-10-10, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1040028, JP
بيانات الأولوية:
2006-10108631.03.2006JP
العنوان (EN) HIGH-CONTACT STRUCTURE FOR SOLID-PARTICLE, HIGH-CONTACT STRUCTURE BASE FOR SOLID PARTICLE, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
(FR) STRUCTURE A CONTACT FORT POUR PARTICULE SOLIDE, BASE DE STRUCTURE A CONTACT FORT POUR PARTICULE SOLIDE ET LEURS PROCEDES DE PRODUCTION
(JA) 固体粒子高接触体、固体粒子高接触体基材、及びそれらの製造方法
الملخص:
(EN) A high-contact structure for solid particles which comprises aggregates formed by the primary aggregation of primary particles made of a metal and/or metal oxide and the secondary aggregation of the primary-aggregation product, wherein the primary particles have an average particle diameter of 1-100 nm. In the pores formed by the primary-aggregation product, the volume of pores having a pore diameter in the range of [(average pore diameter of the pores)±50%] accounts for 60% or more of the total volume of the pores. This high-contact structure for solid particles can efficiently trap a wide range of solid particles including carbon-containing ingredients such as soot and PMs having a small particle diameter. It is extremely useful as an oxidation catalyst, etc.
(FR) La présente invention concerne une structure à contact fort pour particules solides qui comprend des agrégats formés par l'agrégation primaire de particules primaires faites d'un métal et/ou d'un oxyde de métal et l'agrégation secondaire du produit provenant de l'agrégation primaire, les particules primaires ayant un diamètre moyen de particules allant de 1 à 100 nm. Dans les pores formés par le produit de l'agrégation primaire, le volume de pores ayant un diamètre de pore dans la gamme du [(diamètre moyen depore des pores) ± 50 %] représente 60 % ou plus de volume total des pores. Cette structure à contact fort pour particules solides peutpiéger de manière efficace une large gamme de particules solides comprenant des ingrédients contenant du carbone tels que la suie et des PM ayant un petit diamètre de particules. Elle est extrêmement utile en tant que catalyseur d'oxydation, etc.
(JA) not available
front page image
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
المنظمة الإقليمية الأفريقية للملكية الفكرية (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
مكتب البراءات الأوروبي الآسيوي (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
المكتب الأوروبي للبراءات (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
المنظمة الأفريقية للملكية الفكرية (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
لغة النشر: ياباني (JA)
لغة الإيداع: ياباني (JA)