WIPO logo
الهاتف الخلوي | Deutsch | English | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 |
PATENTSCOPE

البحث في مجموعات البراءات الوطنية والدولية
World Intellectual Property Organization
البحث
 
تصفّح
 
الخيارات
 
أخبار
 
تسجيل الدخول
 
مساعدة
 
ترجمة آلية
1. (WO2017213001) METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM
أحدث البيانات الببلوغرافية المتوفرة لدى المكتب الدولي    تقديم ملاحظات

رقم النشر:    WO/2017/213001    رقم الطلب الدولي:    PCT/JP2017/020314
تاريخ النشر: 14.12.2017 تاريخ الإيداع الدولي: 31.05.2017
التصنيف الدولي للبراءات:
C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), G02B 1/115 (2015.01)
المودعون: NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP)
المخترعون: SHUTO, Shunsuke; (JP).
SAKI, Satoru; (JP)
الوكيل: SHINTAKU, Masato; (JP).
YOSHIMOTO, Tsutomu; (JP)
بيانات الأولوية:
2016-113943 07.06.2016 JP
2017-097698 16.05.2017 JP
العنوان (EN) METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UN FILM OPTIQUE
(JA) 光学フィルムの製造方法
الملخص: front page image
(EN)By simultaneously conducting electricity to a plurality of sputtering chambers during preliminary film formation when producing an optical film for forming a multilayer optical thin-film on a film substrate, the present invention forms a layered thin-film body of two or more different material types on a film substrate, and calculates the film thickness of the plurality of thin-films on the basis of the optical properties obtained by an optical measurement unit (80) provided in the sputtering device. The film thickness measurement and thin-film formation conditions are repeatedly adjusted until the optical properties obtained by the optical measurement unit or the film thickness of the plurality of thin-films calculated on the basis of the optical properties falls within a prescribed range.
(FR)La présente invention concerne, en conduisant simultanément de l'électricité vers une pluralité de chambres de pulvérisation pendant la formation de film préliminaire lors de la production d'un film optique pour former un film mince optique multicouche sur un substrat de film, la formation d’un corps de film mince stratifié de deux ou de plus de deux types de matériaux différents sur un substrat de film, et le calcul de l'épaisseur de film de la pluralité de films minces sur la base des propriétés optiques obtenues par une unité de mesure optique (80) comprises dans le dispositif de pulvérisation. Les conditions de mesure d'épaisseur de film et de formation de film mince sont réglées de manière répétée jusqu'à ce que les propriétés optiques obtenues par l'unité de mesure optique ou l'épaisseur de film de la pluralité de films minces calculée sur la base des propriétés optiques se situent dans une plage prescrite.
(JA)フィルム基材上に多層光学薄膜を形成する光学フィルムの製造の予備成膜において、複数のスパッタ室に同時に通電することにより、フィルム基材上に2以上の異種材料の薄膜の積層体を成膜し、スパッタ装置内に設けられた光学測定部(80)で得られた光学特性から、複数の薄膜の膜厚を算出する。光学測定部で得られる光学特性または光学特性から算出される複数の薄膜の膜厚が所定範囲内となるまで、膜厚の測定と薄膜の成膜条件の調整とが繰り返し行われる。
الدول المعيّنة: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
لغة النشر: Japanese (JA)
لغة الإيداع: Japanese (JA)