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1. (WO2009120859) GOLD-COATED POLYSILICON REACTOR SYSTEM AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/120859    International Application No.:    PCT/US2009/038389
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 26.03.2009
IPC:
C01B 33/00 (2006.01)
Applicants: GT SOLAR, INCORPORATED [US/US]; 243 Daniel Webster Highway Merrimack, NH 03054 (US) (Todos excepto los EE.UU.).
GUM, Jeffrey, C. [US/US]; (US) (Únicamente los EE.UU.).
FERO, Chad [US/US]; (US) (Únicamente los EE.UU.).
DESROSIER, Dan [US/US]; (US) (Únicamente los EE.UU.)
Inventors: GUM, Jeffrey, C.; (US).
FERO, Chad; (US).
DESROSIER, Dan; (US)
Agent: JENSEN, Steven, M.; Edwards Angell Palmer & Dodge LLP P.O. Box 55874 Boston, MA 02205 (US).
ARMSTRONG, James, E.; Edwards Angell Palmer & Dodge LLP P.O. Box 55874 Boston, MA 02205 (US).
BROOKS, William, L.; Edwards Angell Palmer & Dodge LLP P.O. Box 55874 Boston, MA 02205 (US).
BUTLER, Gregory, B.; Edwards Angell Palmer & Dodge LLP P.O. Box 55874 Boston, MA 02205 (US).
BEAUDET, Matthew; Edwards Angell Palmer & Dodge LLP P.O. Box 55874 Boston, MA 02205 (US)
Priority Data:
61/039,756 26.03.2008 US
Title (EN) GOLD-COATED POLYSILICON REACTOR SYSTEM AND METHOD
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE RÉACTEUR EN POLYSILICIUM REVÊTU D’OR
Abstract: front page image
(EN)A reaction chamber system, and related devices and methods for use in the system, are provided in which reduced power consumption can be achieved by providing a thin layer of gold on one or more components inside a reaction chamber. The reaction chamber system can be used for chemical vapor deposition. The gold coating should be maintained to a thickness of at least about 0.1 microns, and more preferably about 0.5 to 3.0 microns, to provide a suitable emissivity inside the reaction chamber, and thus reduce heat losses.
(FR)La présente invention concerne un système de chambre de réaction, et des dispositifs et procédés apparentés à utiliser dans le système, dans lequel une consommation d’énergie réduite peut être atteinte en prévoyant une fine couche d’or sur un ou plusieurs composants à l’intérieur d’une chambre de réaction. Le système de réaction peut être utilisé pour un dépôt chimique en phase vapeur. Le revêtement d’or devrait être maintenu à une épaisseur d’au moins environ 0,1 micron, et de manière davantage privilégiée d’environ 0,5 à 3,0 microns, pour assurer une émissivité appropriée à l’intérieur de la chambre de réaction, et réduire ainsi les pertes des chaleur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organización Africana de la Propriedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: inglés (EN)
Filing Language: inglés (EN)