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1. (WO2008076414) SELF-REPLICATING MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/076414    International Application No.:    PCT/US2007/025749
Publication Date: 26.06.2008 International Filing Date: 17.12.2007
IPC:
C12Q 1/68 (2006.01)
Applicants: NEW YORK UNIVERSITY [US/US]; 650 First Avenue, New York, NY 10016 (US) (For All Designated States Except US).
CHAIKIN, Paul Michael [US/US]; (US) (For US Only).
PINE, David [US/US]; (US) (For US Only).
SEEMAN, Nadrian [US/US]; (US) (For All Designated States Except US).
GRIER, David G. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: CHAIKIN, Paul Michael; (US).
PINE, David; (US).
GRIER, David G.; (US)
Agent: RECHTIN, Michael D.; Foley & Lardner Llp, 321 N. Clark Street, Ste. 2800, Chicago, IL 60610 (US)
Priority Data:
60/875,272 15.12.2006 US
Title (EN) SELF-REPLICATING MATERIALS
(FR) MATÉRIAUX D'AUTORÉPLICATION
Abstract: front page image
(EN)The invention provides micron and sub-micron scale particles designed to recognize and selectively interact with each other by exploiting the recognition and specificity enabled by DNA-sequence-encoded coatings. Such materials possess sufficient information coded in their chemical and physical interactions to self assemble and self replicate. The invention further provides methods of using such materials to create self replicating and organizing materials. Replicated copies are permanently linked and then thermally detached, freeing them to act as templates for further growth. This new class of condensed matter systems, provides means to design and control the structure and function of materials and machines from the microscopic to life-size. In another aspect of the invention, depletion type forces and depletion zones can be utilized in the implementation of the self assembly and self replication of materials, including without limitation colloidal particles. The invention further provides novel means of synthesis and materials built by such synthesis, which may be used in a variety of applications, including microelectronics.
(FR)La présente invention concerne des particules à échelle micronique et submicronique conçues pour reconnaître et interagir sélectivement les unes sur les autres en exploitant la reconnaissance et la spécificité permises par les revêtements encodés par une séquence d'ADN. De tels matériaux possèdent une information suffisante codée dans leurs interactions chimiques et physiques de façon à s'auto-assembler et s'autorépliquer. L'invention concerne en outre des procédés utilisant de tels matériaux pour créer des matériaux d'autoréplication et d'organisation. Des copies répliquées sont liées de manière permanente et ensuite détachées thermiquement, les libérant pour agir en tant que modèles afin de se développer davantage. Cette nouvelle classe de systèmes de matière condensée, fournit des moyens pour concevoir et commander la structure et la fonction de matériaux et de machines de taille microscopique à grandeur nature. Dans un autre aspect de l'invention, les forces de dépression et les zones de dépression peuvent être utilisées dans la réalisation de l'auto-assemblage et l'autoréplication des matériaux, comprenant sans limitation des particules colloïdales. L'invention concerne en outre de nouveaux moyens de synthèse et des matériaux construits par une telle synthèse, pouvant être utilisés dans une variété d'applications, comprenant la microélectronique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Org. (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)