WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
1. (WO2008021586) DIFFERENTIAL REFLECTION SPECTROSCOPY SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING EXPLOSIVES AND OTHER TARGET MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/021586    International Application No.:    PCT/US2007/063789
Publication Date: 21.02.2008 International Filing Date: 12.03.2007
IPC:
G01N 21/31 (2006.01), G01J 3/42 (2006.01), G01J 3/433 (2006.01), G01N 21/55 (2006.01), G01N 33/22 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITY OF FLORIDA RESEARCH FOUNDATION, INC. [US/US]; 223 Grinter Hall, Gainesville, FL 32611 (US) (For All Designated States Except US).
HUMMEL, Rolf, E. [US/US]; (US) (For US Only).
FULLER, Ann, Marie [US/US]; (US) (For US Only).
SCHOLLHORN, Claus [DE/US]; (US) (For US Only).
HOLLOWAY, Paul, H. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HUMMEL, Rolf, E.; (US).
FULLER, Ann, Marie; (US).
SCHOLLHORN, Claus; (US).
HOLLOWAY, Paul, H.; (US)
Agent: QUINONES, Eduardo, J.; Akerman Senterfitt, P.o. Box 3188, West Palm Beach, FL 33402-3188 (US)
Priority Data:
60/784,623 10.03.2006 US
11/401,791 11.04.2006 US
Title (EN) DIFFERENTIAL REFLECTION SPECTROSCOPY SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING EXPLOSIVES AND OTHER TARGET MATERIALS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE SPECTROSCOPIE DE RÉFLEXION DIFFÉRENTIELLE POUR DÉTECTER DES EXPLOSIFS ET AUTRES MATÉRIAUX CIBLES
Abstract: front page image
(EN)A system and method for identifying explosive or other target materials includes the steps of irradiating a first location and a second location spaced apart from the first location from a sample suspected of including explosives with ultraviolet, visible or infrared light, measuring reflected light emanated from the first sample location (R1) and reflected light emanated from the second sample location (R2), and calculating a normalized difference in reflectivity (ΔR/ R ), wherein R = (R1+R2)/2 is an average reflectivity. A differential reflection spectrum (DRS) is then generated for the sample where ΔR=R2-R1 is the difference of the reflectivities of the first and the second sample location. One or more explosives or other target materials if present are identified in the sample based on comparing the DRS for the sample to at least one reference DRS.
(FR)Cette invention concerne un système et un procédé pour identifier des explosifs ou d'autres matériaux cibles comprenant les étapes consistant à irradier avec de la lumière ultraviolette, visible ou infrarouge un premier emplacement et un second emplacement espacé du premier emplacement d'un échantillon soupçonné de contenir des explosifs; à mesurer la lumière réfléchie émanant du premier emplacement d'échantillon (R1) et la lumière réfléchie émanant du second emplacement d'échantillon (R2); et à calculer une différence normalisée en réflectivité (ΔR/R), où R=(R1+R2)/2 est une réflectivité moyenne. Un spectre de réflexion différentiel (DRS) est alors généré pour l'échantillon, où ΔR=R2-R1 est la différence entre les réflectivités du premier et du second emplacement d'échantillon. Un ou plusieurs explosifs ou autres matériaux cibles, le cas échéant, sont identifiés dans l'échantillon sur la base de la comparaison du DRS pour l'échantillon à au moins un DRS de référence.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Org. (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)